Gebraucht HITACHI IS-2000 #293820662 zu verkaufen

HITACHI IS 2000 ist eine Masken- und Wafer-Inspektionsanlage zur effizienten Inspektion dicker Wafer und Mehrschichtfolien. Mit einem hochpräzisen Stempel-zu-Stempel-Vergleich zur hochgenauen Fehlererkennung bietet IS 2000 eine zuverlässige Qualitäts- und Ausbeutekontrolle von Halbleiterbauelementen in Fertigungsstraßen. Das System besteht aus einem optischen Mikroskop mit Objektiv, Illuminator und einer CCD-Kamera, die Bilder der Wafer und Masken aufnimmt. Das Gerät zeigt das Bild auf einem LCD-Monitor an. Eine Bildverarbeitungseinheit vergleicht das Beispielbild mit dem Ziel. Es werden alle Unterschiede wie Staub, Partikel und Kratzer auf Metallschichten, Kontaktvias auf Verdrahtungsmustern und Fehler in Masken festgestellt. HITACHI IS 2000 Lichtquelle ist optimiert, um sowohl für reflektierende als auch für transmissive Bildgebung geeignet zu sein. Es verwendet eine Hochleistungs-Halogenlampe mit einer höheren Temperaturtoleranz, die eine gleichmäßige Beleuchtung erzeugt. Eine aktive Kühlmaschine ist eingebaut, um zu verhindern, dass die Lampe eine hohe Temperatur erreicht. IS 2000 verwendet ein hochpräzises Objektiv, um Bilder der Probe zu erfassen. Das Objektiv ist mit mehreren Linsen ausgelegt und ermöglicht eine hochgenaue Ausrichtung des Wafers. Durch die Verwendung eines hochgenauen 4-Achsen-Ausrichtmechanismus können mehrere Punkte auf dem Wafer schnell und präzise ausgerichtet werden. Die Bildverarbeitungseinheit von HITACHI IS 2000 verwendet eine 2048 x 2022 Pixel CCD-Kamera, die eine hervorragende Auflösung und Kontrast bietet. Mit seiner Kombination aus fortschrittlicher Optik und bildgebender Technologie ist IS 2000 in der Lage, eine Vielzahl von Defekten auf höchstem Niveau der Genauigkeit zu erkennen. HITACHI IS 2000 kann auch Multimaskenvergleiche und Stempelanalysen durchführen. Durch den Vergleich der Maskendaten mit dem Zielmuster kann IS 2000 selbst feinste Unterschiede erkennen. Insgesamt ist HITACHI IS 2000 ein hervorragendes Werkzeug zur effizienten Inspektion dicker Wafer und Mehrschichtfolien. Die Kombination aus fortschrittlicher Optik, ausgefeilter Bildverarbeitungstechnologie und leistungsstarken Bildverarbeitungsfunktionen ermöglicht es, eine Reihe von Fehlern und Fehlern mit hoher Genauigkeit und Zuverlässigkeit zu erkennen.