Gebraucht HITACHI IS 2000 #9103910 zu verkaufen

HITACHI IS 2000 Maske und Wafer Inspektion Ausrüstung ist eine automatisierte, hohe Durchsatz Maske und einzelne Wafer Inspektionssystem, das überlegenes Design mit einer erweiterten Suite von Maske und Wafer Defekt Erkennung Fähigkeiten kombiniert. Das Gerät versucht, die bestmöglichen Ergebnisse für die Fehlererkennung zu liefern, während das Eingreifen des Benutzers minimiert wird. Mit einer hochenergetischen BSE/SE/Raman-Bildgebungstechnologie verwendet diese Maschine eine hochauflösende 10-Megapixel (11.520 x 9.024 Pixel) Peltier-gekühlte, 50mm CCD-Kamera, um kontrastreiche Bilder mit einem minimalen Rauschpegel zu erzeugen. Das Tool enthält auch fortschrittliche neuartige Algorithmen für die Bildverarbeitung und die Merkmalserkennung, um die Fehlererkennung zu verbessern. Es hat eine Stufenauflösung von 0,6 bis 0,5 μ m, eine Grenzschwerpunkt-Verzerrung < 100 nm und eine Genauigkeit für Hintergrund- und optisch dielektrische Messungen von < 1%. Diese Anlage ist auch in der Lage, eine Fehlerlängenmessung mit einem Mindestwert von 0,1 μ m und einer Genauigkeit von 0,08 μ m durchzuführen. Zusätzlich zu seinen überlegenen Konstruktions- und Fehlererkennungsfunktionen ist das Modell mit leistungsfähiger Software ausgestattet, um eine benutzerfreundliche Bedienung zu gewährleisten. Das Gerät bietet eine Reihe von nützlichen Funktionen, darunter: automatische Fehlerklassifizierung, Brennpunktsteuerung, Inspektionsmustergenerierung, Fehlerverhinderungseinstellungen und Fehlerkartenverwaltung. Das System ist auch in der Lage, Prüfergebnisse automatisch zu speichern. Die Software läuft in Windows (7 oder höher) so dass es einfach zu bedienen. Die IS 2000 Mask & Wafer Inspection Unit wurde entwickelt, um den Prozess der Fehlererkennung zu automatisieren und ist somit ideal für Anwendungen geeignet, die von fortschrittlicher Prozesssteuerung bis hin zur Masken- oder Waferentwicklung reichen. Sein Produktdesign bietet Anwendern die Flexibilität, eine breite Palette von Masken und einzelnen Wafern zu überprüfen und bietet eine leistungsstarke, kostengünstige Lösung für die Masken- und Waferinspektion.