Gebraucht HITACHI IS 2500 #293657153 zu verkaufen
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ID: 293657153
Wafergröße: 6"
Weinlese: 1998
Wafer particle inspection system, 6"
1998 vintage.
HITACHI IS 2500 ist eine hochwertige, hochgenaue Masken- und Wafer-Inspektionsausrüstung, die komplette Musterprüfungs- und Fehlererkennungslösungen bietet. Das System nutzt eine Intrafeld-Inspektionseinheit, um die Genauigkeit des Nanometers zu erreichen. Es wurde entwickelt, um sowohl traditionelle optische Inspektionen als auch die automatische Fehlererkennung mit fortschrittlichen Algorithmen und maschinellen Lerntechniken durchzuführen. Die Maschine nutzt ihre High-End-Optik, kombiniert mit spezialisierter Optik, wie ihrer Aberrationskorrekturoptik, um Mustererkennung und Fehlererkennung durchzuführen. Die einzigartige Kombination aus Objektiven und Spiegeln ermöglicht es dem Werkzeug, ultrahochauflösende Bilder über eine breite Palette von Betrachtungswinkeln zu erzeugen, um Anomalien oder Unvollkommenheiten im Muster zu identifizieren. Das Asset verfügt über einen fortschrittlichen Algorithmus zur Mustererkennung, mit dem Fehler schnell und mit hoher Genauigkeit identifiziert werden können. Durch den Einsatz von Merkmalsvergleichsverfahren wie Randoberwellen, Hochfrequenzdiskriminatoren und Kreuzkorrelation ist es in der Lage, Unterschiede zwischen Zielmustern und ihren Referenzmustern effektiv zu bestimmen. Es ist in der Lage, sowohl lokale als auch globale Fehler zu erkennen, einschließlich elektrischer Shorts, Brüche, Abstandsverletzungen und Überziehungen. Das Modell verfügt auch über eine hochgenaue Overlay-Fehlermessgeräte, die Genauigkeit der endgültigen Wafer Muster gewährleistet. Es verwendet sowohl Inline- als auch Out-of-Line-Inspektionstechniken, um sowohl vertikale als auch laterale Overlay-Fehler zu messen und zu korrigieren. Es reduziert Messfehler im Zusammenhang mit Registrierungsfehler und Fehlanpassungen zwischen aufeinanderfolgenden Ebenen. Schließlich enthält das Softwarepaket von HITACHI IS-2500 eine erweiterte Analyseschnittstelle zur Überwachung und Analyse von Inspektionsergebnissen. Dazu gehören visuelle Overlays, Fehlerzeiterfassung und Vergleich mehrerer Designs und Schichten für denselben Wafer, was eine hochgenaue Erkennung und Verifizierung ermöglicht. Insgesamt ist das umfassende Feature-Set von IS 2500 und seine hohe Genauigkeit eine ideale Wahl für alle, die ein fortschrittliches Masken- und Wafer-Inspektionssystem suchen. Die spezialisierten optischen Komponenten, die Algorithmen zur Mustererkennung und die Analyseschnittstelle ermöglichen es, hochgenaue Ergebnisse zu liefern und sicherzustellen, dass jeder einzelne Fehler identifiziert und korrigiert werden kann.
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