Gebraucht HITACHI IS 2510 #293657152 zu verkaufen

HITACHI IS 2510 ist eine fortschrittliche Masken- und Wafer-Inspektionsausrüstung, die während des Produktionsprozesses eine hochauflösende, hochgenaue Prüfung von Defekten an den Masken und Wafern ermöglicht. Dieses Hightech-System ist für kritische Inspektionsaufgaben ausgelegt, die ein Höchstmaß an Bildqualität und Messgenauigkeit erfordern. Es ist die einzige Einheit in seiner Klasse, die hochauflösende Bilder sowohl von Maskendefekten als auch Subwellenlängen-Waferdefekten unterstützt. Dadurch bietet es den maximalen Grad an Fehlerabdeckung und Erkennungsfähigkeit für Produktionsscheiben und Masken. Die Maschine basiert auf einer chromatischen konfokalen Spot (CCS™) -Technologie, die eine überlegene Auflösung und Bildqualität für Wafer-Inspektionen bietet. Diese CCS-Technologie hat sich bewährt, Defekte sowohl auf Masken- als auch auf Waferoberflächen effizient zu scannen und zu erkennen. Das Tool enthält auch fortschrittliche Algorithmen zur Mustererkennung und andere hochmoderne Techniken zur Erzeugung außergewöhnlicher Bildergebnisse. Das IS 2510 ist zudem mit einem robusten Datenbankmanagement ausgestattet, das es dem Anwender ermöglicht, umfassende Masken- und Wafer-Fehlerdatenbanken effizient zu erstellen und zu verwalten. Mit dieser Datenbank können Fehler sowohl auf Masken- als auch auf Waferoberflächen schnell gesucht und identifiziert werden. Das Modell beinhaltet zudem leistungsstarke, einfach zu bedienende Software zur umfassenden Fehleranalyse und -berichterstattung. Die Ausrüstung HITACHI IS 2510 wird durch Präzisionshardware weiter verbessert, die sowohl für Wafer- als auch für Maskeninspektionen hervorragende Leistung bietet. Das System beinhaltet eine X-Y-Stufe mit Mikrometer-Genauigkeit zur präzisen Positionierung der Maske oder des Wafers. Hochwertige Linsen bieten eine hervorragende Vergrößerung und aberrationsfreie Bildgebung. Und der neueste bildgebende Fortschritt wird verwendet, um eine überlegene Abbildung von Masken- und Waferdefekten zu ermöglichen. Diese fortschrittliche Einheit wurde entwickelt, um die anspruchsvollen Produktionsanforderungen der Halbleiterindustrie zu erfüllen. Es ist in der Lage, Defekte sowohl an Masken als auch an Wafern zu erkennen und bietet eine maximale Abdeckung des Produktionsprozesses. Mit seiner robusten Defect Database Management Machine und erweiterten Bildverarbeitungsfunktionen ermöglicht IS 2510 die einfache Erkennung und Beseitigung von Defekten während des Produktionsprozesses.