Gebraucht HITACHI LS-6700 #9087166 zu verkaufen

ID: 9087166
Particle inspection system Throughput: Under normal inspection mode 37 WPH Particle detection size: 0.05um and higher Wafer size: Configured for 12" Includes manual Currently in cleanroom.
HITACHI LS-6700 ist eine für die Halbleiterindustrie entwickelte Masken- und Wafer-Inspektionsanlage. Es ist in der Lage, Fehler bis zum Nanometermaßstab sowohl auf Wafern als auch auf Masken genau zu messen. Das System besteht aus drei modularen Teilen - einer Lichtquelleneinheit, einer optischen Abtasteinheit und einer Computereinheit. Die Lichtquelleneinheit gibt ein breites Lichtspektrum ab, das dann über einen Strahlteiler an die optische Abtasteinheit gerichtet wird. Die optische Abtasteinheit besteht aus einer hochauflösenden Kamera, einem Objektiv und einer Echtzeit-Positionserfassungseinheit. Zusammen ermöglichen diese Komponenten der Masken- und Wafer-Inspektionsmaschine, hochauflösende Bilder der Wafer- oder Maskenoberfläche mit Nanometer-Genauigkeit zu erfassen. Die Computereinheit besteht aus einer großen Speicherkapazität und leistungsstarker Verarbeitungskapazität, so dass sie die Bilddaten schnell verarbeiten kann. Es enthält auch eine intuitive grafische Benutzeroberfläche (GUI), mit der Benutzer den maskierten & Wafer-Inspektionsprozess einfach und schnell anpassen können. Neben Informationen zu Fehlergröße und -position erkennt HITACHI LS 6700 auch eine Vielzahl von Fehlertypen. Dazu gehören das Messen von offenen/kurzen Hosen, Stufenhöhen, Gruben und anderen Oberflächenunvollkommenheiten bis zur Nanometerskala. Dank seiner internen Algorithmen können Anwender des Masken- & Wafer-Inspektionstools potenzielle Mängel schnell erkennen und kennzeichnen. In Bezug auf Wiederholbarkeit und Genauigkeit ist LS-6700 eines der besten Systeme auf dem Markt. Es verfügt über eine ausgezeichnete Wiederholbarkeit von 0,9 Prozent und eine Positioniergenauigkeit von bis zu 0,2 Nanometern. Die Anlage eignet sich auch gut für die Multi-Die-Wafer-Inspektion und ist in der Lage, bis zu vier Werkzeuge gleichzeitig zu analysieren. Insgesamt ist LS 6700 ein exzellentes Masken- und Wafer-Inspektionsmodell, das eine hochgenaue Bildgebung mit einer Auflösung auf Nanometerniveau bietet. Seine modulare Konstruktion macht es flexibel und einfach zu bedienen, während seine leistungsfähige Verarbeitung und Wiederholbarkeit ermöglicht eine schnelle und genaue Fehlererkennung.
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