Gebraucht HITACHI PSD10-2U #9167732 zu verkaufen

HITACHI PSD10-2U ist ein leistungsstarkes Masken- und Wafer-Inspektionssystem, das extrem präzise Scan- und Inspektionsergebnisse liefert. Es wurde speziell entwickelt, um die hohen Anforderungen an dielektrische, optische und elektrische Inspektion auch für ultrafeine Funktionen mit minimalen Produktionsausfallzeiten zu erfüllen. PSD10-2U ist mit einer hochauflösenden Kamera und fortschrittlichen Bildverarbeitungswerkzeugen ausgestattet, so dass das System selbst subtile Fehler mit höchster Genauigkeit erkennen kann. Es bietet eine Hochgeschwindigkeitskontrolle, die den Zeitaufwand für die Inspektion eines gesamten Wafers reduzieren kann. Es ist auch in der Lage, eine dynamische Fokussierung mit seinem einzigartigen Autofokussierungsmechanismus, der eine verbesserte Fehlererkennung bietet, da es eine vollständige Abdeckung der gesamten Maske oder Waferoberfläche gewährleisten kann. Das System ist mit einer leistungsstarken Scan-Engine ausgestattet, die Bilder mit Geschwindigkeiten von bis zu 1200 mm/s liefern kann und eine schnelle und effiziente Fehlererkennung in nur wenigen Sekunden ermöglicht. Dies ist vor allem in der Großserienfertigung sinnvoll, wo eine schnelle Fehlererkennung kritisch ist. Darüber hinaus ist HITACHI PSD10-2U in der Lage, eine zuverlässige Substrat-zu-Substrat-Inspektion durchzuführen, so dass das gleiche Sub-Mikron-Detail schnell und einfach auf verschiedenen Substraten verglichen werden kann. Der Scanbereich von PSD10-2U ist je nach Anwendung variabel. Es kann Wafer bis zu 16 Zoll in der Größe handhaben, mit Auflösungen bis zu 10-Mikron-Bilder. Es bietet auch eine Vielzahl von bildgebenden Techniken zur Inspektion verschiedener Substratmaterialien wie amorphes Silizium, ICs, MEMS und optische Scheiben. Neben Inspektionsmöglichkeiten bietet HITACHI PSD10-2U auch umfassende quantitative Analyse- und Mustererkennungsfunktionen. Es ist mit raffinierten Signalverarbeitungsalgorithmen, wie dielektrischer Fehlererkennung, dunkler Linie und heller Linienanalyse und On-Die-Leckage-Fehlererkennung ausgestattet. Dies sorgt für punktgenaue Erkennung subtiler Fehlermuster und Identifizierung zugrunde liegender Ursachen und liefert gleichzeitig detaillierte qualitative und quantitative Messdaten. Insgesamt bietet PSD10-2U eine hochmoderne Masken- und Waferinspektion, mit der Hersteller Fehler schnell und präzise erkennen und beheben können. Seine Mischung aus schnellem Scannen, umfassender Analyse und robusten Fehlererkennungsfunktionen machen es zu einer ausgezeichneten Wahl für diejenigen, die eine zuverlässige, leistungsstarke Masken- und Waferinspektion suchen.