Gebraucht HORIBA PR-PD2 #293778203 zu verkaufen

HORIBA PR-PD2 ist ein hochentwickeltes Masken- und Wafer-Inspektionssystem, das eine hochgenaue und schnelle Analyse kritischer Defekte in fortgeschrittenen Masken und Wafern ermöglicht. Das System besteht aus einer Dual Light Source High Speed Inspection Unit, die mit zwei unabhängigen Lichtquellen, einem 8X Objektiv und einem breiten Sichtfeld ausgestattet ist. Darüber hinaus verwendet das System einen erweiterten CMOS-Sensor, der eine Hochgeschwindigkeits-Bildaufnahme mit hoher Auflösung ermöglicht. Ergänzt wird dies durch die HORIBA Image Analysis Toolbox (HIAT) Software, die die Erkennung, Identifizierung und Quantifizierung von Defekten an zu testenden Masken und Wafern ermöglicht. Die Dual Light Source High Speed Inspection Unit von HORIBA PR-PD 2 ist in der Lage, eine Vielzahl von Wafer- und Maskengrößen, -formen und -dicken zu handhaben. Das achtfache Objektivobjektiv (8X) bietet ein breites Sichtfeld und ermöglicht eine vollständige Fehlererkennung und kritische Messung. Die Hochgeschwindigkeits-Inspektionseinheit hat eine einstellbare Öffnung, die zur Steuerung der Schärfentiefe und zur Gewährleistung einer hohen Genauigkeit nützlich ist. Der fortschrittliche CMOS-Sensor bietet Hochgeschwindigkeits- und Hochauflösungs-Bildaufnahmen, die eine vollständige Auflösung von Defekten an der Maske oder dem Wafer ermöglichen. Der fortschrittliche Sensor wird außerdem von einer ganzen Reihe von Bildverarbeitungstools unterstützt, einschließlich 3D-Fehlerabbildung, automatischer Kontrasteinstellung und Rauschreduzierungsalgorithmus. Die fortschrittliche HORIBA HIAT Software integriert sich in die Dual Light Source High Speed Inspection Unit, um eine robuste Fehlererkennung und -analyse zu ermöglichen. Die Software nutzt Musteranalyse und Machine Learning Algorithmen, um Fehler für die weitere Verarbeitung zu erkennen, zu identifizieren und zu quantifizieren. Darüber hinaus bietet HIAT auch leistungsstarke Bildfilterwerkzeuge, um eine genaue und effiziente Fehlerüberwachung zu ermöglichen. Es bietet auch eine Reihe von Fehlerprozessalgorithmen, einschließlich Fokusabstandsregelung und statistische Markierung. Schließlich kombiniert PR-PD2 leistungsstarke Hardware- und Softwarefunktionen und liefert genaue und zuverlässige Analysen für kritische Masken- und Waferdefekte. Die fortschrittliche Dual Light Source High Speed Inspection Unit und der CMOS-Sensor in Kombination mit der HORIBA HIAT Software bieten eine effektive Lösung für die Inspektion und Analyse von Masken und Wafern. All diese Funktionen tragen dazu bei, eine genaue Überprüfung zu gewährleisten und kritische Messungen durchzuführen, wodurch die Produktionsabläufe weiter optimiert werden.