Gebraucht HYPERNEX XRD #9311079 zu verkaufen

HYPERNEX XRD ist eine fortschrittliche Masken- und Wafer-Inspektionsanlage, die entwickelt wurde, um Fehler mit höchster Genauigkeit zu untersuchen und zu analysieren. Das System verwendet die neueste automatisierte optische Inspektionstechnologie (AOI), um Defekte von ultravioletten (EUV) Lithographiemasken, Folien- und Wafer-Mustern zu untersuchen und zu messen. Durch die Verwendung von automatisierten optischen Inspektionen ist XRD in der Lage, Funktionen zu überprüfen, die nicht größer als 50 nm sind, mit einer hohen Genauigkeit und Geschwindigkeit. HYPERNEX XRD verwendet eine optische Abbildungseinheit mit einer extrem hohen Auflösung, um auch die kleinsten Merkmale zu untersuchen. Es ist mit einer adaptiven Multiapertur-Bildverarbeitungsmaschine, einer beispiellosen optischen Auflösung und einer beispiellosen 5-nm-Overlay-Genauigkeit sowie einem Ultra-High-Speed-Reticle-Scanning-Modus ausgestattet. XRD wurde mit einem außergewöhnlichen integrierten Softwarepaket namens [TMP_NAME] entwickelt, in dem es in der Lage ist, eine breite Palette von kritischen Elementen wie Muster, Fehlergrößen, Tiefe, Seitenbrückung (SB), Linienkantenrauhigkeit (LER), Brückenecken, Linienbreitenvariationen und Defektcluster zu messen. Mit seinem vollautomatisierten Inline-Messgerät ist es in der Lage, hochpräzise Registrierungs- und Platzierungsdaten mit einer Genauigkeit von 0,1 um bereitzustellen. Darüber hinaus ist das Werkzeug entwickelt, um schnell eine große Anzahl von Messdaten mit hoher Genauigkeit und Stabilität zu analysieren. Das Asset verfügt über eine benutzerfreundliche grafische Oberfläche, ein leistungsstarkes Datenverwaltungsmodell und Unterstützung für mehrere Sprachen. Darüber hinaus bietet es USB und Netzwerkanschluss für die Datenübertragung sowie Standard-Ethernet und RS232/RS485 Anschlüsse für die Fernbedienung. Darüber hinaus verfügt das Gerät auch über die Fähigkeit, den Bildbelichtungspegel zu steuern, um sowohl die Fehlerinspektion als auch die Überlagerungsgenauigkeit zu optimieren und präzise Messungen unabhängig von Probenvariation und Umweltveränderungen zu gewährleisten. Insgesamt ist HYPERNEX XRD eine fortschrittliche Inspektions- und Analysefähigkeit, die unübertroffene Ergebnisse und eine verbesserte Qualitätskontrolle liefert. Es wurde entwickelt, um eine extreme Genauigkeit für die Inspektion von Masken- und Wafer-Merkmalen auf Merkmalsgrößen von 50 nm und darunter zu gewährleisten. Es ist ideal für die Halbleiterherstellung und bietet ein hohes Maß an Flexibilität, Wirtschaftlichkeit und Zuverlässigkeit.