Gebraucht ICOS CI 8250 #9161520 zu verkaufen

ICOS CI 8250 ist eine umfassende Masken- und Wafer-Inspektionsausrüstung, die eine schnelle und genaue Identifizierung von Defekten in Masken und Wafern ermöglicht. Dieses System wurde entwickelt, um den Anforderungen der anspruchsvollsten Halbleiteranwendungen gerecht zu werden, da es in der Lage ist, sehr kleine Fehler präzise zu erkennen. Es bietet verbesserte Bildqualität, eine breite Palette von Merkmalsmessungen und verbesserte Bildanalysefunktionen bei gleichzeitig hohem Produktionsdurchsatz. CI 8250 Einheit enthält eine Vielzahl von Werkzeugen, die bei der Inspektion von Masken und Wafern helfen. Es umfasst einen umfassenden Bildspeicher zur Überwachung von Inspektionsinformationen und eine Reihe fortschrittlicher Systeme zur Fehleranalyse. Das Tool ist auch in der Lage, sich automatisch zu fokussieren, und bietet Inspektoren detaillierte Bilder, damit sie Fehler genau identifizieren können. ICOS CI 8250 Asset bietet zudem umfangreiche Unterstützung für Redundanz und Verifizierung. Es verfügt über Funktionen wie ein erweitertes Planungsmodell, das den Inspektionsprozess von Anfang bis Ende optimieren und schnelle Entscheidungen ermöglichen kann. Es gibt auch eine Belichtungssteuereinrichtung, die mehrere Sensoren verwendet, um die Konsistenz und Genauigkeit der Belichtungen während des Inspektionsprozesses zu gewährleisten. CI 8250 System verwendet auch fortschrittliche 3D-Bearbeitungsalgorithmen, um Fehler sowohl in planaren als auch in komplexen Oberflächenmasken genau zu identifizieren. Dadurch kann das Gerät Fehler wie Mikrofehler, Verzerrungen, Nadelöcher, Risse und andere Oberflächenfehler erkennen. Es kann auch strukturelle Fehler wie Lichtbogenfehler und dielektrische Ausfälle erkennen. Schließlich verfügt die Maschine ICOS CI 8250 über ein Bildverarbeitungswerkzeug, das Maßfehler in komplexen Formen erkennen kann. Dieses Merkmal ermöglicht eine hohe Genauigkeit bei der Fehlerinspektion. CI 8250 asset ist eine umfassende und effiziente Inspektionslösung für Masken und Wafer. Dank seiner Eigenschaften und einer Vielzahl von Tools ist es in der Lage, sehr kleine Fehler zu identifizieren, verbesserte Bildanalysefunktionen bereitzustellen und den Durchsatz mit hoher Bildqualität und Präzision zu verbessern. Diese Eigenschaften, kombiniert mit seiner detaillierten Unterstützung für Redundanz und Verifizierung, machen dieses Modell zu einer idealen Wahl für hohe Qualität und Genauigkeit bei der Masken- und Waferinspektion.