Gebraucht IMS 200MH Electra MX #9389231 zu verkaufen

ID: 9389231
E-Beam inspection system.
IMS 200MH Electra MX ist eine erstklassige Masken- und Wafer-Inspektionsanlage für Halbleiterhersteller. Mit fortschrittlicher Optik und hochauflösenden Bildgebungsfunktionen kann es Fehler in Halbleiterbauelementen erkennen und eine detaillierte Analyse ihrer genauen Standorte über den gesamten Wafer liefern. Mit einer präzisen Laserscaneinheit erfasst das System bis zu 20 Millionen Pixel pro Sekunde in einem Scanbereich von bis zu 60 mm pro Sekunde. Es ist auch mit einer Vielzahl von Bildverarbeitungsmodi wie Hellfeld, Dunkelfeld, polarisiertes Licht, Konturanalyse und Phasenverschiebungsstufen ausgestattet, die verschiedene Arten von Defekten erkennen können, einschließlich Partikeln, Orientierungen, Kratzer, Vertiefungen und Überbrückungen. Es verfügt auch über einen Messalgorithmus, der Parameter wie Linienbreite, Zeilenlänge und Platz so klein wie 16nm messen kann. Es ist mit einem Funktionsextraktionsalgorithmus integriert, der die Muster auf den Masken und Wafern vergleichen kann und so eine präzise und wiederholbare Analyse der Produktmerkmale ermöglicht. Die Maschine ist sowohl im Hinblick auf Benutzerfreundlichkeit als auch Geschwindigkeit konzipiert. Es verfügt über eine grafische Benutzeroberfläche, die die Bedienung, Konfiguration und Verwaltung des Tools erleichtert und Funktionen zur Simulation, Analyse und Fehlerberichterstattung bietet. Das Asset wird auch über USB oder Ethernet-Ports gesteuert, was eine Fernbedienung und -steuerung ermöglicht. Das Modell ist für den Betrieb in drei verschiedenen Modi konzipiert - kontinuierlicher Scan, Bereichsscan und manueller Scan. Im kontinuierlichen Modus kann die Ausrüstung bis zu 30 Wafer pro Stunde scannen; im Bereich-Scan-Modus kann es bis zu 50 Wafer pro Stunde scannen; und im manuellen Scan-Modus kann es bis zu 10 Wafer pro Stunde scannen. Das System verfügt außerdem über eine Niedrigvakuumfunktionalität, die die Beurteilung von partikelfreien Oberflächen ermöglicht, und eine langlebige LED-Lichtquelle, die über ihre Lebensdauer eine konsistente Beleuchtung bietet. Das Gerät entspricht den VDI/VDE, ESD-Standardpraktiken und ISO-Standards. Darüber hinaus verfügt es über eine leistungsstarke Datenverarbeitungsfähigkeit, die eine schnelle Analyse großer Dateien und komplexer Bilder ermöglicht. Insgesamt ist 200MH Electra MX eine fortschrittliche Masken- und Wafer-Inspektionsmaschine, die für Halbleiterhersteller geeignet ist. Es verfügt über hochauflösende Bildgebungsfunktionen und leistungsstarke Datenverarbeitungsfunktionen, die eine schnelle und präzise Analyse und Auswertung von Halbleiterbauelementen ermöglichen.
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