Gebraucht IMS LVIS-III #9159231 zu verkaufen

IMS LVIS-III ist eine fortschrittliche Masken- und Wafer-Inspektionsausrüstung, die für eine schnelle und genaue Analyse von Wafern und Masken in der Fertigung, Forschung und Entwicklung und anderen Anwendungen entwickelt wurde. Das Instrument nutzt die neuesten digitalen Bildgebungs- und Sensortechnologien, um hochauflösende Bilder der Wafer- oder Maskenoberfläche zu erzeugen. Das System bietet eine breite Palette von Funktionen und Funktionen, so dass Benutzer Wafer oder Masken effektiv und bequem auf Defekte überprüfen können. Das Gerät verfügt über eine integrierte ultraviolette (UV) und nahinfrarote (NIR) Lichtquelle, die einstellbar ist, damit das Mikroskop verschiedene Materialschichten auf dem Wafer oder der Maske analysieren kann. Das Mikroskop enthält auch ein automatisiertes Polarisationsfilter, das eingestellt werden kann, um den Kontrast des Wafer- oder Maskenbildes zu optimieren. Eine integrierte Challenge Box ermöglicht es dem Anwender, Punktmessungen des geprüften Materials durchzuführen, was eine genaue und konsistente Wiederholbarkeit ermöglicht. Die Maschine umfasst auch eine leistungsstarke, motorisierte XY-Bühne mit einem digitalen Schrittmotor an Bord. Dadurch kann der Benutzer die Probe schnell und genau in X- und Y-Richtung bewegen, um das gesamte Sichtfeld zu inspizieren. Das Mikroskop ist auch mit einer Reihe von Inspektionsprogrammen ausgestattet, so dass der Benutzer die häufigsten Defekte wie Falten, Verfärbungen und Beulen genau erkennen kann. Neben dem Mikroskop umfasst das Werkzeug auch eine hochauflösende Digitalkamera, die eine präzise Analyse der Wafer- oder Maskenoberfläche ermöglicht. Es enthält auch Software zur Datenerfassung, -analyse und -berichterstattung. Diese Software ermöglicht es dem Benutzer, Bildparameter anzupassen, um den Kontrast und die Helligkeit der Bilder zu optimieren. Alle Bilder können dann als JPG- oder BMP-Dateien zur weiteren Analyse auf die Computerfestplatte exportiert werden. Insgesamt ist LVIS-III eine leistungsfähige und fortschrittliche Masken- und Waferinspektionsanlage, die eine einfach zu bedienende Schnittstelle und die neueste bildgebende Technologie für genaue und zuverlässige Ergebnisse bietet. Dieses Instrument eignet sich sowohl für Forschungs- als auch für Fertigungsanwendungen und ermöglicht es Forschern und Herstellern, Wafer oder Masken schnell und genau auf etwaige Mängel zu analysieren.