Gebraucht INTEK PLUS IPIS-300 #9148604 zu verkaufen

INTEK PLUS IPIS-300
ID: 9148604
Weinlese: 2010
Inspection system 2010 vintage.
INTEK PLUS IPIS-300 Mask and Wafer Inspection Equipment ist ein fortschrittliches Werkzeug für Halbleiterherstellungsprozesse. Es bietet eine schnelllaufende, hochauflösende Plattform, um Maske und Oblatenprodukte während des Herstellungsprozesses zu untersuchen. Das System ist vollautomatisiert und verwendet eine Reihe von CCD-Kameras, um Masken, Wafer und stirbt schnell und genau zu überprüfen. IPIS-300 bietet ein 1,2 Megapixel CCD-Kamera-Array, das Bilder mit einer Genauigkeit von mehr als 5 Mikron pro Geschichte aufnimmt. Diese hohe Auflösung ermöglicht es dem Gerät, Teilmuster auszuwerten, so dass es auch kleinste Fehler erkennen kann, die sonst unbemerkt bleiben können. Die Maschine verfügt außerdem über einen 5-Achs-Messtechnik-Antrieb, der sich entlang drei Winkeln drehen und erfassen und sich in den horizontalen und vertikalen Ausrichtungen bewegen kann, was eine noch tiefergehende Analyse der Masken und Waferprodukte ermöglicht. INTEK PLUS IPIS-300 bietet eine Vielzahl von Inspektionsmerkmalen und Fähigkeiten, einschließlich Spot- und Linieninspektionen, minimaler Merkmalserkennung und Fehlerüberprüfung. Die Geräuschreduzierungsalgorithmen des Werkzeugs können helfen, Fehlalarme zu identifizieren und Geräusche aus dem Wafer- oder Maskenprodukt zu reduzieren. Darüber hinaus kann das Asset die kritischen Parameter von Wafern wie Fokus, Diagramm und Überlappung auswerten. IPIS-300 bietet auch eine dedizierte Software-Suite, die den Wafer- und Maskeninspektionsprozess optimiert. Die Software ermöglicht es Benutzern, das Modell schnell einzurichten, Bilder zu erfassen und detaillierte Berichte zu erstellen. Es bietet auch eine Vielzahl von Analyseoptionen, einschließlich Fehlerklassifizierung, Größenänderung und Abdeckung, sowie die Möglichkeit, Parametereinstellungen für spätere Arbeiten zu speichern. Insgesamt ist INTEK PLUS IPIS-300 eine fortschrittliche Ausrüstung, die eine hochauflösende, automatisierte Inspektion von Masken- und Waferprodukten ermöglicht. Mit seinem 1.2 Megapixel CCD Kamera Array, hochauflösende Bildgebung, Rauschunterdrückung Algorithmen, und dedizierte Software-Suite, ist das System in der Lage, auch die kleinsten Fehler zu erkennen, so dass Benutzer Wafer und Masken Produkte mit mehr Genauigkeit und Geschwindigkeit zu überprüfen.
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