Gebraucht IRVINE OPTICAL Ultraspec III #39811 zu verkaufen

IRVINE OPTICAL Ultraspec III ist eine Masken- und Wafer-Inspektionsanlage für den Einsatz in Produktions- und Forschungs- und Entwicklungslabors. Es nutzt fortschrittliche Optik und dreidimensionale Bildgebungstechnologien, um effiziente und qualitativ hochwertige Inspektionsergebnisse zu liefern. Das System eignet sich gut zum Testen einer Vielzahl von Wafersubstraten, einschließlich Photomasken, Displays, CMOS-Geräten und anderen integrierten Schaltungen. Ultraspec III verwendet einige Komponenten, um Effizienz und Leistung zu maximieren. Der automatisierte Wafer-Handler verwendet eine motorisierte Plattform, um das Substrat für eine optimale Inspektion zu drehen und zu positionieren. Hochauflösende Objektive erfassen Bilder des Substrats und liefern detaillierte und enthüllende Bilder. IRVINE OPTICAL Ultraspec III ist auch mit fortschrittlicher Bildanalysesoftware ausgestattet. Es ist in der Lage, sowohl statische als auch dynamische Bilder zu erfassen, sodass Benutzer Proben schnell analysieren können. Es verfügt über einen integrierten Algorithmus, der Fehler automatisch identifizieren und auf dem Bild markieren kann. Die Software umfasst auch umfassende Datenverwaltungsfunktionen, mit denen Benutzer Bilder, Analyseinformationen und andere Daten speichern können. Darüber hinaus bietet Ultraspec III einen integrierten Test-Port auf Einheitenebene. Dieser Port wird verwendet, um den Computer auf andere Testumgebungen wie einen Prober auszudehnen. Dieser Port ermöglicht es Benutzern auch, zusätzliche Inspektionsaufgaben einfach in den gesamten Werkzeugbetrieb zu integrieren. IRVINE OPTICAL Ultraspec III bietet eine benutzerfreundliche Schnittstelle, um das Asset zu steuern. Sein einfach zu bedienendes Menü-Modell macht es zum Kinderspiel, auf alle Gerätefunktionen zuzugreifen. Zusätzlich werden alle Einstellungen und Parameter im nichtflüchtigen Speicher gespeichert, so dass Benutzer das System schnell zum Laufen bringen können. Ultraspec III ist ideal für eine Vielzahl von Anwendungen in der Masken- und Waferproduktion. Seine fortschrittlichen Optik- und Bildgebungstechnologien bieten einen zuverlässigen und genauen Inspektionsprozess für Anwendungen wie Spalt-, Overlay- und kritische Dimensionsprüfungen. Darüber hinaus ist der integrierte Unit-Level-Test-Port und die benutzerfreundliche Schnittstelle eine gute Wahl für das Rapid Prototyping und das Testen neuer Wafer und Substrate.