Gebraucht IRVINE OPTICAL Ultrastation 3E #150934 zu verkaufen

IRVINE OPTICAL Ultrastation 3E ist eine automatisierte Masken- und Waferinspektionsanlage, die eine unübertroffene Bildgebungstechnologie für eine umfassende Musteranalyse und Prozessfehlerbehebung bietet. Das System verwendet eine leistungsstarke, hochauflösende optische Einheit, um kleine Fehler und Ungleichmäßigkeiten auf Photomasken und Wafern zu erkennen. Ultrastation 3E verwendet zwei Detektoren, optisch und akustooptisch, um dünne Schichten von Strukturen auf der Maske oder dem Wafer genau abzubilden. Der optische Detektor verwendet ein spezialisiertes optisches Mikroskop, um hochauflösende Bilder der Masken- und Waferoberflächen zu erfassen. Der akustooptische Detektor verwendet einen akustischen Kristall, um strukturelle Ungleichförmigkeiten auf der Maske oder dem Wafer zu detektieren. Durch die Kombination der beiden Technologien ist die IRVINE OPTICAL Ultrastation 3E in der Lage, auch bei extrem kurzen Lichtwellenlängen präzise abzubilden und zu identifizieren. Ultrastation 3E verfügt auch über erweiterte bildgebende Funktionen wie variable Vergrößerung und Rotationsfunktionen, die eine äußerst genaue Inspektion ermöglichen. Zusätzlich steuert die IRVINE OPTICAL Ultrastation 3E selektiv die Helligkeitseinstellung des Mikroskops, so dass nur die benötigte Lichtmenge zur Beobachtung benötigt wird. Dies ermöglicht verbesserte bildgebende Ergebnisse und eine verbesserte Maskeninspektionsauflösung. Ultrastation 3E verfügt auch über eine lange Lebensdauer und stabile Leistung, aufgrund einer langlebigen und zuverlässigen Plattform. Die Maschine ist für eine Vielzahl von Temperatur-, Druck- und Feuchtigkeitsbedingungen sowie für niedrige Lichtverhältnisse ausgelegt. Darüber hinaus reduziert die IRVINE OPTICAL Ultrastation 3E den Wartungsaufwand, indem sie ein redundantes Luftstrom-Tool verwendet, um das Asset staubfrei zu halten. Die von Ultrastation 3E gesammelten Daten können durch Hochleistungs-Analysetools analysiert und überprüft werden. Das Modell kann Prozess- und Materialfehler identifizieren, die Prozessleistung analysieren und auf Fehler scannen. Mit seiner intuitiven Benutzeroberfläche und einfach zu bedienenden grafischen Schnittstellen bietet IRVINE OPTICAL Ultrastation 3E unschätzbare Unterstützung für Prozessingenieure und hilft ihnen, Probleme frühzeitig im Designprozess zu erkennen und zu beheben. Ultrastation 3E ist eine ideale Lösung für die Masken- und Waferinspektion und bietet genaue Bildgebungs- und Profilierungsfähigkeit bei hoher Auflösung. IRVINE OPTICAL Ultrastation 3E kombiniert überlegene Bildgebungsfähigkeiten mit fortschrittlichen Analysewerkzeugen und ist ein unschätzbares Werkzeug für die Halbleiterindustrie.