Gebraucht J-MAR 010-3180-012 #9236123 zu verkaufen

J-MAR 010-3180-012 Mask & Wafer Inspection Equipment ist eine optimierte Abbildungslösung für Halbleiteranwendungen. Dieses System bietet zuverlässige und genaue Fehlerbeobachtung und Messtechnik über alle Arten von Substraten und Materialien. Das Gerät ist für die Inspektion von Masken, Wafern und dielektrischen Schichten sowie für eine Reihe optischer Bilder wie optische Absorption, Reflektivität, Durchlässigkeit und Beugung ausgelegt. Es besteht aus drei Komponenten: einem optischen Mikroskop, einem Spektralfilter und einer Digitalkamera. Das optische Mikroskop arbeitet mit einer NA 1.4 Stablinse, die ein hochauflösendes Bild des Substrats oder Materials mit einem anderen Bildmaßstab und Fokus liefert. Es ist auch mit einer weiträumigen Beleuchtungsmaschine für eine erhöhte Verfügbarkeit des Bildes ausgestattet. Ein fortschrittlicher FFT (Fast Fourier Transform) -Ansatz ist für verbesserten Kontrast, geringe Verzerrung und ausgezeichnete Bildauflösung integriert. Mit Hilfe des Spektralfilters werden unerwünschte Frequenzen aus dem Durchlicht entfernt, wodurch scharfe Merkmale mit erhöhter Detektivität detektiert werden können. Der Filter bietet auch einen breiten Spektralbereich von sichtbarem Ultraviolett (UV) bis zu nahem Infrarot (NIR) und löst sowohl große als auch kleine Submikron-Bilder auf. Die Digitalkamera liefert ein detailliertes, hochauflösendes Bild. Es ist mit einem verstärkten CCD-Chip für erhöhte Empfindlichkeit und Dynamik konfiguriert, so dass kleinere Fehler besser erkannt werden können. Die Kamera kann verwendet werden, um einzelne Bilder oder lange Serien von Bildern zu erfassen, so dass der Benutzer genaue Fehlerstrukturen über einen längeren Zeitraum überwachen und identifizieren kann. Darüber hinaus ist das Tool mit fortschrittlichen Bildverarbeitungswerkzeugen wie Fehlererkennungsalgorithmen, Fehlercharakterisierung und Fehleranalyse ausgestattet. Die Ergebnisse können dann weiter analysiert werden, um die Ursache der Defekte zu ermitteln. J-MAR 010-3180-012Mask & Wafer Inspection Asset bietet eine leistungsstarke, kostengünstige Lösung mit einer Kombination aus fortschrittlichen Bildverarbeitungsfunktionen und Neubildverarbeitungstools. Dieses Modell ermöglicht die Fehlererkennung und Charakterisierung sowohl für Verarbeitungs- als auch für Qualitätskontrollanwendungen. Mit der Fähigkeit, genaue, zuverlässige Ergebnisse zu liefern, ist 010-3180-012 Mask & Wafer Inspection Equipment eine zuverlässige Lösung für die Fehlerinspektion von Masken und Wafern.