Gebraucht J-MAR S2610-01-01 #9211242 zu verkaufen

J-MAR S2610-01-01 ist eine hochpräzise Masken- und Wafer-Inspektionsanlage, die in der Halbleiterindustrie eingesetzt wird. Dieses System nutzt fortschrittliche Optik, Laser und automatisierte softwarebasierte Inspektionstechniken, um Fehler in einer Vielzahl fortschrittlicher Materialien wie Silizium-Wafer, Maske und Verbindungen genau zu messen und genau zu erkennen. Das Gerät ist mit einer Vielzahl von Sensoren ausgestattet, darunter eine mikroskopische CCD-Kamera mit 1024x1024 Auflösung. Diese hochauflösende Kamera ermöglicht es dem Bediener, auch kleinste Oberflächenfehler bis in den Nanometermaßstab zu erkennen. Darüber hinaus ist eine parallele konfokale Lasermaschine mit 0,05 Mikrometer Punktgröße für hochpräzise Messungen enthalten. Das Werkzeug verfügt auch über eine proprietäre Optik-Technik bekannt als Laser Beam Stripping (LBS), die auch die dünnsten Schichten aus Material so dünn wie 0,1 Mikron zu erkennen. Das Asset wird von einem maßgeschneiderten Softwarepaket namens WIP Control Model (WIPCS) angetrieben. Diese Software bietet dem Benutzer leistungsstarke und genaue Fehlererkennungsfunktionen, einschließlich Musteranpassung, 3D-Formanalyse und Best-Fit-Analyse. Damit ist sichergestellt, dass auch die anspruchsvollsten Prozesse wie Elektrofotografie (E-Strahl) und fortschrittliche Lithographie genau und effektiv überwacht werden können. In Kombination mit seiner fortschrittlichen Optik und Sensortechnologie ist S2610-01-01 Gerät auch mit fortschrittlichen automatisierten Prozesssteuerungsfunktionen ausgestattet. Diese Merkmale sorgen dafür, dass alle Prozesse zuverlässig und effizient betrieben werden. Die kontrollierte Automatisierung und Integration dieser Funktionen ermöglicht reduzierte Betriebskosten und verbesserte Prozesserträge. Schließlich verfügt dieses System über eine begleitende Suite von Datenanalysesoftware zur detaillierten Auswertung von Fehlerüberwachung, Merkmalsmessungen und anderen kritischen Prozessvariablen. Diese Analyse gewährleistet höchste Produktqualität bei maximaler Effizienz. Zusammenfassend ist J-MAR S2610-01-01 eine Hightech-Masken- und Wafer-Inspektionseinheit, die fortschrittliche Optik, Laser und automatisierte softwarebasierte Inspektionstechniken verwendet, um Fehler bis in den Nanometermaßstab zu erkennen und genau zu messen. Es ist auch mit Prozesssteuerungsfunktionen und Datenanalyse-Software für eine optimale Produktausgabe ausgestattet. Diese Maschine ist ideal für fortschrittliche Prozesse wie E-Strahl und fortschrittliche Lithographie.