Gebraucht KEM / KOKUSAI VR-70 #9157351 zu verkaufen

KEM / KOKUSAI VR-70
ID: 9157351
Resistivity measurement system.
KEM/KOKUSAI VR-70 ist eine leistungsstarke Masken- und Waferinspektionsanlage, die für die Inspektion von Photomasken und Wafern ausgelegt ist. Es führt mehrere Inspektionen durch, einschließlich optischer Inspektion, Fehlerklassifizierung, Fehlerzählung, Druck, Ebenheit, Matrizenoberfläche und Wafer-Ebenheitsmessung. Das System verwendet eine fortschrittliche hochauflösende Bilderzeugungseinheit, um Echtzeitbilder von Photomasken- oder Waferoberflächen mit ausgezeichneter Wiederholbarkeit und Genauigkeit zu erhalten. Die aufgenommenen Bilder werden dann von einer ultraschnellen Laserabbildungsmaschine und einem schnellen Prüfalgorithmus für Fehlerstellen und Klassifizierung verarbeitet. KEM VR-70 bietet eine hohe Inspektionsgeschwindigkeit mit einem Durchsatz von 3.000 Wafern/Stunde. Das Tool verwendet eine Strahlformungstechnologie mit einer Wellenlänge von 532 nm, um Bilder mit einer Bildrate von bis zu 250 Bildern/Sekunde und einer Bildqualitätsauflösung von bis zu 75 nm zu erfassen. Die aufgenommenen Bilder werden dann einer fortgeschrittenen Waferoberflächenanalyse zur Fehlererkennung, Klassifizierung und Zählung unterzogen. Es kann Fehler wie Fehler, Muster und Druckfehler mit hoher Genauigkeit und Zuverlässigkeit erkennen und klassifizieren. Darüber hinaus bietet KOKUSAI VR-70 asset eine automatisierte und benutzerfreundliche Bedienoberfläche, die es dem Anwender ermöglicht, Messungen effizient einzurichten, Ergebnisse zu analysieren und die Qualität zu bestätigen. Das Modell verfügt auch über eine lineare Beugung Grating Scanning Equipment (LDSS), die stabile, hochauflösende und zuverlässige Wafer Ebenheit Messung aus verschiedenen Druckgrößen bietet. Das System ist in der Lage, genaue Oberflächenschwingungen und Neigungsmessungen bereitzustellen, um die hohen Anforderungen an die Oberflächentopologie zu erfüllen. Zusammenfassend ist VR-70 eine fortschrittliche Masken- und Wafer-Inspektionseinheit, die hohe Leistung, Genauigkeit und Zuverlässigkeit für die Inspektion von Photomaske- und Waferoberflächen bietet. Es wird mit einer fortgeschrittenen hochauflösenden Bildbildungsmaschine ausgestattet, Ultrahochleistungslaserbildaufbereitungswerkzeug und Sterben-Niveauschaualgorithmen, die den Vermögenswert zu schnell ermöglichen und genau entdecken, klassifizieren, und Zählungsdefekte auf der Oblatenoberfläche. Darüber hinaus verfügt das Modell über eine automatisierte und benutzerfreundliche Bedienoberfläche sowie eine lineare Beugungsgitter-Scanausrüstung (LDSS) zur genauen Oberflächentopologiemessung.
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