Gebraucht KLA / ICOS CI 8250 #9103714 zu verkaufen

KLA/ICOS CI 8250 ist eine hochmoderne Masken- und Wafer-Inspektionsanlage zur Erkennung und Identifizierung von Defekten bei der Herstellung von Halbleiter- und Photomasken-Bauelementen. Dieses System kombiniert fortschrittliche Technologien wie die optische Mikroskopie (Kreischer-Duncker optische Mikroskopie) und fortschrittliche Software-Algorithmen, um eine umfassende Lösung für die Erkennung von Defekten an Masken und Wafern mit einer Auflösung von Subnanometern zu liefern. Die Optik der KLA CI 8250 ist direkt über der Werkbank platziert und ermöglicht eine nahezu sofortige Erkennung selbst kleinster Defekte und Verunreinigungen. Das Gerät verwendet auch fortschrittliche Software-Algorithmen, um Fehler an Masken und Wafern zu identifizieren und zu kategorisieren, was eine effizientere Fehlerverfolgung und -behebung ermöglicht. ICOS CI-8250 enthält auch Algorithmen für künstliche Intelligenz, um die subtilen Unterschiede zwischen defekten und nicht defekten Lithographie-Geräten zu verstehen. Diese Maschine verfügt über ein leistungsfähiges Bildanalysetool, das so konzipiert ist, dass es einfach an bestehende Computernetzwerke angeschlossen werden kann und eine anspruchsvolle Analyse der erfassten Bilder ermöglicht. Darüber hinaus ist das Asset in der Lage, Bilder von Fehlern in einer Vielzahl von Farben und mit einer Vergrößerungsauflösung von bis zu 1400x zu erfassen. CI-8250 Modell enthält auch eine Vielzahl von erweiterten Diagnosetools. Diese Werkzeuge ermöglichen die Validierung von Fehlergrößen und -formen sowie die Diagnose von Verunreinigungen und anderen Defekten. Darüber hinaus stehen fortschrittliche Bildgebungswerkzeuge wie Phasenkontrast, Dunkelfeld und Lichtfeld zur Verfügung, um die Genauigkeit und Benutzerfreundlichkeit weiter zu verbessern. CI 8250 enthält auch eine intuitive Benutzeroberfläche, die für die einfache Bereitstellung und Rationalisierung des gesamten Inspektionsprozesses konzipiert ist. Diese Benutzeroberfläche ermöglicht eine schnelle Anpassung der Inspektionsparameter an bestimmte Aufgaben und Ziele. Darüber hinaus umfasst die Ausrüstung auch eine Analyse-Analyse-Software, die analytische Berichte erstellen kann, um Trends und Verbesserungspotenziale schnell zu identifizieren. Insgesamt ist KLA/ICOS CI-8250 ein umfassendes Masken- und Wafer-Inspektionssystem, das präzise und zuverlässige Ergebnisse schnell und effizient liefert. Dieses Gerät bietet unseren Kunden eine leistungsstarke, aber kostengünstige Lösung mit einer Vielzahl von Funktionen, die den Prozess der Inspektion von Masken und Wafern auf Defekte optimieren und verbessern sollen.