Gebraucht KLA / ICOS CI 8250 #9113513 zu verkaufen

KLA / ICOS CI 8250
ID: 9113513
Weinlese: 2002
Inspection system 2002 vintage.
KLA/ICOS CI 8250 ist eine automatisierte, bildbasierte Masken- und Waferinspektionsanlage für Halbleiterhersteller. Es bietet Anwendern eine umfassende Lösung, um sowohl die Wafer- als auch die Maskenqualität sicherzustellen. Das System verfügt über eine konfokale Bildgebungstechnologie auf Basis eines Laserinterferometers und einen robusten Algorithmus, der eine Submikron-Auflösung von Musterdefekten erzeugt. Das Gerät enthält eine Reihe von Komponenten, um die Wafer- und Maskeninspektion genauer und effizienter zu gestalten. Es verwendet eine hochmoderne Mustererkennungssoftware, ein dreidimensionales motorisiertes Objektiv zur präzisen Ausrichtung und Fokussierung, ein Laserinterferometer zur Messung der Reflektivität des reflektierten Lichts und eine hochauflösende CCD-Kamera zur Aufnahme von Bilddaten. KLA CI 8250 ist für hohe Leistung und dauerhaften Durchsatz optimiert. Es ist in der Lage, zweidimensionale Bilder mit überlegener Geschwindigkeit und Genauigkeit zu erzeugen. Die Rotation und Vergrößerung des Bildes kann an die interessierenden Wafer-Merkmale angepasst und Defekte differenziert werden. Die Maschine kann beide Arten von Defekten identifizieren - offene Defekte oder Unterbrechungen im Muster und geschlossene Defekte oder Überlappungen zwischen Musterelementen. ICOS CI-8250 bietet eine Vielzahl von Bildmanipulationswerkzeugen wie Kontrastverbesserung, Schärfung und Kantenerkennung, um die Qualität der aufgenommenen Bilder zu verbessern. Die erweiterten Bilder können dann genutzt werden, um Fehler genauer zu erkennen und zu analysieren. Durch die Verwendung verschiedener Analysetechniken wie Falschfarbenzuordnung, horizontales Profilplotten und Histogrammanalyse kann das Werkzeug die Eigenschaften der Fehler genau messen und melden. Insgesamt ist die KLA CI-8250 ein ausgezeichnetes automatisiertes Inspektionsobjekt zur Erkennung und Analyse von Defekten auf Wafer- und Maskenschichten. Seine erweiterten Bildverbesserungsfunktionen und Analysetechniken bieten eine effiziente Lösung für die Nachbearbeitung von Daten und Ertragsinformationen, die verwendet werden können, um Produktausfallzeiten zu reduzieren und die Produktionsqualität zu erhöhen.
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