Gebraucht KLA / ICOS CI 8250 #9156475 zu verkaufen

KLA/ICOS CI 8250 ist eine Masken- und Wafer-Inspektionsanlage, die für die Produktion von großvolumigen Halbleitern entwickelt wurde. Das System verfügt über eine berührungslose optische Bildgebungstechnologie mit einer breiten Palette von Vergrößerungen von 5x bis 800x. Auf diese Weise kann das Gerät Defekte bis zu einer Größe von 25 Nanometern erkennen. Die Maschine verfügt auch über eine patentierte Dual-Light Laser Illumination (DLI) Fähigkeit, die die Erkennung von Kontextfehlern ermöglicht, einschließlich Muster oder Ausfälle. Das Tool umfasst auch eine Vielzahl von Software-Fähigkeiten. Es verfügt über Software, die Funktionen auf der Maske oder dem Wafer automatisch identifizieren, typische Fehler identifizieren und dann Wafer entsprechend zurückweisen oder akzeptieren kann. Dieses Asset kann eine Reihe von Mustern und Funktionen genau erkennen, einschließlich derjenigen, die inline, isoliert oder in einer zufälligen Verteilung sind. Es verfügt auch über Funktionen für Multi-View-Fehlerüberprüfung und Fehlerzählung. Weitere Merkmale von KLA CI 8250 sind ein vollautomatisches Wafer-Ausrichtungsmodell sowie automatische Fokus-, Belichtungs- und Maskenkippfunktionen. Dadurch wird sichergestellt, dass Funktionen effektiv ausgerichtet werden können und die bildgebende Ausrüstung bei der Inspektion den perfekten Fokus auf den Wafer oder die Maske behält. Die Software, die im ICOS- CI-8250 enthalten ist, umfasst ein On-Line-Imaging-Analyse (OIA) -System, das eine Echtzeit-Fehlererkennung und -analyse ermöglicht, sowie eine direkte Fehlererkennung (DDR) -Einheit zur schnellen und genauen automatisierten Fehlerklassifizierung. CI-8250 ist eine leistungsstarke Inspektionsmaschine, die für die anspruchsvollsten Halbleiterproduktionsumgebungen entwickelt wurde. Es ist in der Lage, kleine Mängel schnell und genau zu erkennen und kann sowohl in der Produktionslinie als auch im Forschungslabor eingesetzt werden. Die breite Palette an Vergrößerungen, DLI-Funktionen und Softwarefunktionen machen es zu einem der fortschrittlichsten verfügbaren Wafer- und Maskeninspektionssysteme.