Gebraucht KLA / ICOS CI 8450 #9124470 zu verkaufen

KLA/ICOS CI 8450 ist eine Masken- und Wafer-Inspektionsanlage zur Erkennung von Defekten an Photomasken und Halbleiterscheiben in den frühen Fertigungsstufen. Es verfügt über hochpräzise Optik- und Bildgebungssysteme und seine ausgeklügelte Elektronik unterstützt die Erkennung einer Vielzahl von Defekten an Masken und Wafern mit höchster Genauigkeit. Dies ermöglicht es, die kleinsten Fehler mit hoher Wiederholbarkeit zu identifizieren. KLA CI 8450 verfügt über ein hochmodernes optisches Bildverarbeitungssystem sowie eine Hochgeschwindigkeits-digitale Bildverarbeitung, um den Durchsatz und die Produktionseffizienz zu maximieren. Es nutzt eine innovative Quad-Channel-Technologie, um die Genauigkeit durch Verringerung von Messfehlern zu erhöhen. Das Gerät ist in der Lage, Inspektionen an doppelseitigen Beschichtungen durchzuführen, was eine häufige Herausforderung bei der Masken- und Waferinspektion ist. Die Software von ICOS CI 8450 ist in der Lage, Daten aus mehreren Quellen zu erfassen und zu analysieren. Es verarbeitet Daten schnell und genau, um Fehlerverfolgung und -berichterstattung durchzuführen, die eine umfassende Fehlerüberwachung und -verwaltung in der Produktion ermöglicht. Darüber hinaus werden erweiterte Algorithmen in die Software eingebettet, um die Fehlererkennung zu unterstützen. Die Maschine verfügt zudem über eine intuitive Benutzeroberfläche, die eine einfache Fehlererkennung und -prüfung ermöglicht. Die Schnittstelle unterstützt auch erweiterte Funktionen wie Side-by-Side-Vergleich, 3D-Visualisierung und automatische Fehlerextraktion. Es ist auch mit einer Vielzahl von Produktionsdatenformaten kompatibel, um ein effizientes Datenmanagement zu ermöglichen. Darüber hinaus ist CI 8450 ein kostengünstiges Inspektionswerkzeug, das für ein optimales Preis-Leistungs-Verhältnis entwickelt wurde. Es kann auf die individuellen Kundenanforderungen zugeschnitten werden und bietet maximale Flexibilität und Zuverlässigkeit für eine schnelle Produktionseinführung. Zusammenfassend ist KLA/ICOS CI 8450 eine fortschrittliche Masken- und Wafer-Inspektion, die höchste Genauigkeit für die Erkennung von Defekten an Photomasken und Wafern in den frühen Produktionsphasen bietet. Das innovative optische Design, die schnelle Bildverarbeitung, fortschrittliche Algorithmen und die benutzerfreundliche Oberfläche machen es zu einer idealen Wahl, um Fehler schnell und genau zu identifizieren.