Gebraucht KLA / ICOS CI 9450 #293812625 zu verkaufen

KLA/ICOS CI 9450 ist eine automatisierte, leistungsstarke Masken- und Waferinspektionsanlage, die zur Erkennung von Fehlern und Verschmutzungen in Halbleiterherstellungsprozessen verwendet wird. Dieses System nutzt fortschrittliche Bildgebungs- und Datensignalanalysetechnologien, um Fehler zu erkennen, bevor sie zu Majorismen werden. Das Gerät ermöglicht eine hohe Durchsatzproduktion von Halbleiter-IC-Wafern (integrierte Schaltungen) mit Hochgeschwindigkeits-Scan- und Inspektionsmöglichkeiten. KLA CI 9450 Maschine ist mit einem modularen Layout entworfen, so dass Kunden ihr Werkzeug nach ihren Bedürfnissen anpassen können. Der Vermögenswert bietet eine Hochgeschwindigkeitsbildaufbereitungsmethode über zwei Bildaufbereitungspfade an: Hell-Feldbeleuchtung und Dunkelheitsfeldbeleuchtung. Die Hellfeldbeleuchtung erkennt Oberflächenfehler, während die Dunkelfeldbeleuchtung Nicht-Oberflächenfehler erkennt. Das Modell bietet auch ein erweitertes Waferanalyse-KE, das eine eingehende Analyse von auf der Waferoberfläche erkannten Fehlern ermöglicht. ICOS CI-9450 umfasst auch eine automatisierte Trägerumschlagsanlage, die für einen schnellen, kontinuierlichen Produktionsfluss ausgelegt ist. Dieses System ist mit physikalischen Ebenentransport, Laden/Entladen, intelligenter Sortierung und Wafer-Rekonfiguration ausgestattet. Es bietet auch erweiterte Funktionen wie LED- und Barcode-Technologie, automatische Wafererkennung und Computeranpassung für die Teilesortierung. Die KLA CI-9450 Einheit wurde mit einem einzigartigen Materialaufbau gebaut und bietet Zuverlässigkeit und Haltbarkeit in industrieller Qualität. Diese Maschine wurde entwickelt, um die höchsten Sicherheitsstandards zu erfüllen, mit allen Teilen und Komponenten, die gegen Korrosion, Hitze und Schock gebaut wurden. Das Inspektionswerkzeug ist auch mit einem niedrigen Wartungsdesign konzipiert, bietet minimale Serviceanforderungen und verfügt über eine 7-jährige begrenzte Garantie. Zusammenfassend ist CI 9450 eine leistungsstarke Masken- und Wafer-Inspektion, die zur Erkennung von Fehlern und Kontaminationen in Halbleiterherstellungsprozessen entwickelt wurde. Es verfügt über modulare Konstruktionsmerkmale, die eine benutzerdefinierte Konfiguration, zwei Bildverarbeitungspfade, eine automatisierte Trägerhandhabung und eine erweiterte Analysefunktion ermöglichen. Darüber hinaus ist das Modell mit industrieller Zuverlässigkeit, Haltbarkeit und Sicherheit für den langfristigen Einsatz konzipiert.