Gebraucht KLA / ICOS CI 9450 #9156476 zu verkaufen

KLA/ICOS CI 9450 ist eine Masken- und Waferinspektionsanlage, die speziell für die hochpräzise Bildgebung und Analyse von Photomasken und Wafern entwickelt wurde, die für die Halbleiterlithographie verwendet werden. Das System verwendet fortschrittliche optische Techniken als Teil seiner Bildgebungs- und Analysestrategie, einschließlich Laserbeleuchtung, fortschrittliche Optik und computergesteuerte Bühnenmechanismen. Das Gerät verfügt über eine 4-Megapixel-Kamera mit hochauflösender Bildgebungsfähigkeit, die eine genaue Beobachtung von Feinlinienmerkmalen auf Photomasken und Wafern ermöglicht. Es verwendet eine Sechs-Quadranten-Ringbeleuchtungsmaschine, um genaue, einheitliche Beleuchtung über das komplette Feld der Ansicht zu bieten. Die Lichtquelle und der Kollimator ermöglichen eine einfache Auswahl und Steuerung von diffusen Beleuchtungs- und Laserbeleuchtungswinkeln und -intensitäten. Das 91-Megapixel-Detektor-Array bietet hochauflösende Bildgebung sowohl im hellen als auch im Dunkelfeldmodus. Dies ermöglicht eine genaue Messung kritischer elektrischer Merkmalsgrößen. Eine hochauflösende monochrome CCD-Kamera wird auch verwendet, um Adressmuster auf dem Wafer zu überprüfen. Das Detektorarray ermöglicht auch die Aufnahme von Mustern in verschiedenen Beleuchtungswinkeln und -skalen. Das Tool enthält auch eine Reihe von erweiterten Algorithmen zur detaillierten Analyse von Masken- oder Waferbildern. Dazu gehören optische Zeichenerkennung, kontrastarme Verbesserung, geringe Belichtungsuntersuchung und Bildschärfung. Das Asset verfügt auch über eine Reihe von automatisierten Prozessen zur Analyse von Bildern. Dazu gehören automatische Waferklassifizierung, automatische Fehlererkennung, automatische fehlerhafte Chiperkennung und automatische Fokussierung. Das Modell kann auch Fehlerprüfberichte erstellen. Neben der Bildgebung und Analyse können die Geräte zur Vorproduktion von Maskenprüfungen und Prozesskontrollen eingesetzt werden. Es ermöglicht auch einen Vergleich zwischen Wafer und Maske, um die Effizienz und Genauigkeit zu maximieren. Abschließend ist das KLA CI 9450 System ein hochentwickeltes und präzises Instrument für die Masken- und Waferinspektion. Es verwendet fortschrittliche optische Techniken und Algorithmen, um hochauflösende Bildgebung und detaillierte Analyse von Halbleiterlithographiemustern bereitzustellen. Darüber hinaus umfasst es eine Vielzahl automatisierter Prozesse zur Hochgeschwindigkeits- und genauen Datenanalyse.