Gebraucht KLA / ICOS CI 9450 #9186346 zu verkaufen

KLA/ICOS CI 9450 ist eine marktführende Masken- und Waferinspektionsanlage, die Fehlerinspektionen und elektrische Testergebnisse nach Industriestandard liefert. Dieses vollautomatische System wurde entwickelt, um Photomasken und Wafer mit überlegener Genauigkeit und Wiederholbarkeit zu überprüfen. Die Einheit umfasst alle Arten von Masken und Wafern, einschließlich hohem Seitenverhältnis, groß und unregelmäßig geformt, und andere schwer zu inspizierende Geräte. Es verwendet vier verschiedene, aber synchronisierte Detektionssysteme: eine bildgebende Maschine, ein elektrisches Werkzeug, eine Mustererkennung und ein Inspektionsmodell, um alle Masken- und Waferfunktionen genau abzubilden. Das bildgebende Gerät besteht aus einem 4K-Mikrofon und einer hochauflösenden Kamera zur Erfassung der Oberflächenfehler und Maskenmuster. Es ist mit 2D-Objektiven mit Autofokus-Technologie gekoppelt, um die Bildqualität zu maximieren. Mit Hilfe der Echtzeit-Tiefenerfassungstechnologie und der fortschrittlichen Bildverarbeitung kann das System eine breite Palette von Oberflächendetails erfassen, darunter: Sterben-zu-sterben-Abstand, Linienbreiten, Kontaktöffnungen, Vorsprünge und Kantenbeschränkungen und vieles mehr. Die elektrische Einheit integriert auch das 4K-Mikrofon, mit Schall elektrische Shorts zu erkennen und öffnet, sowie kleinere Stromflussschwankungen. Es ist mit abgeschirmter Kammerkonstruktion mit einer einstellbaren pneumatischen Höhenkontrollmaschine entworfen, um eine gleichbleibende elektrische Leistung zu gewährleisten. Das Tool zur Mustererkennung verfügt über einen leistungsstarken Multi-Core-Prozessor und erweiterte Algorithmen zur Mustererkennung. Dieses Asset wurde entwickelt, um Fehler in Maskenmustern zu erkennen und sie auf Fehlerfreiheit zu untersuchen. Das Inspektionsmodell verfügt über einen ausgeklügelten optischen Inspektionskopf mit 4K-Sichtfeld und modernsten Fehlerkategorisierungsalgorithmen. Diese Ausrüstung bietet eine schnelle und zuverlässige Inspektion von 1 µm oder größeren Defekten sowie praktisch jedes komplexe Konstruktionsmuster. Insgesamt ist KLA CI 9450 ein fortschrittliches Detektorsystem mit einer Reihe fortschrittlicher Technologien, die komplexe Masken und Wafer effizient inspizieren und sicherstellen, dass sie fehlerfrei sind. Sein robustes und zuverlässiges Design hilft, Produktverluste zu vermeiden und Kosteneinsparungen zu maximieren. Mit der Fähigkeit, jedes Oberflächenmerkmal mit großer Genauigkeit zu erkennen, ist es das ideale Werkzeug für jede Photomaske und Waferinspektion.