Gebraucht KLA / ICOS CI 9450 #9244496 zu verkaufen

KLA/ICOS CI 9450 Mask & Wafer Inspection Equipment ist ein Hochleistungs-CCD-Masken- und Wafer-Inspektionssystem zur Fehlerinspektion sowohl von fortschrittlicher Photomaske als auch von Waferoberfläche. Das Gerät sorgt für maximale erreichbare Inspektionsauflösung und Produktivität. Die Maschine basiert auf einem fortschrittlichen optischen Bildgebungswerkzeug, das aus zwei hochauflösenden monochromen CCD-Kameras besteht, eine mit gerader Linienvergrößerung und eine andere mit diaskopischer Bildgebung. Die beiden Kameras bieten ein optimales weites Sichtfeld und sind mit programmierbaren Inspektionsfeldern, On-Achs- und Off-Axis-Beleuchtung und fortschrittlichen Bildgebungstechniken wie Phasenverschiebung, Identifikation und Farbabstimmung ausgestattet. Die Kameras sind mit einer Bildverarbeitungs-/Betrachtungsstation verbunden, die eine Bildbearbeitung ermöglicht. Der Prozessor ist mit einer Vielzahl von Softwareprogrammen ausgestattet, die es dem Benutzer ermöglichen, Fehler zu finden, zu identifizieren und auszuwerten. Es ermöglicht dem Benutzer auch, verschiedene Bereiche der Maske oder des Wafers zu inspizieren und die Bilder von Interesse zu erfassen. Darüber hinaus kann die Software die Fehlerdichte berechnen und für zukünftige Analysen in einer On-Board-Datenbank speichern. Die Anlage ist für einen hohen Wirkungsgrad ausgelegt und kann Inspektionsgeschwindigkeiten von bis zu 100 Wafern pro Stunde mit einer Genauigkeit von bis zu 0,1 µm erreichen. Es ist mit einem sicheren Ethernet für den Fernzugriff ausgestattet, so dass der Benutzer es von überall auf der Welt steuern kann. Das Modell verfügt über eine Vielzahl benutzerfreundlicher Funktionen wie eine intuitive Benutzeroberfläche, vollständige Integration mit FOUPs und LOTs, schnelle Jobübermittlung und -abruf, Fehlerprotokollierung und Echtzeit-Fehlerisolierung. Darüber hinaus ist die Anlage voll kompatibel mit den neuesten Lithographie- und Messtechnik-Systemen und kompatibel mit einer Vielzahl von Photomaske- und Waferformaten. Es entspricht den Industriestandards und bietet optional integrierte Bildklassifizierung, Inspektionsberichtserstellung und Drilldown-Analyse. Insgesamt ist KLA CI 9450 Mask & Wafer Inspection System eine komplette und umfassende Einheit, die dem Anwender hochauflösende Bildgebungsfunktionen sowie fortschrittliche Softwareprogramme bietet, um die neueste Fehlerinspektion von Photomaske- und Waferoberflächen zu ermöglichen.