Gebraucht KLA / ICOS CI 9450 #9263039 zu verkaufen

ID: 9263039
Weinlese: 2004
Lead inspection system 2004 vintage.
KLA/ICOS CI 9450 ist eine leistungsstarke Masken- und Waferinspektionsanlage. Es ist in der Halbleiter- und optoelektronischen Industrie weit verbreitet und bietet umfassende, kostengünstige und automatisierte optische Inspektionslösungen, um eine optimale Qualität von Halbleiter- und optoelektronischen Bauelementen zu gewährleisten. KLA CI 9450 System basiert auf hellen Licht Interferometrie und bietet hochauflösende, Hochgeschwindigkeitsprüfung von Halbleiterscheibe und Maskenstrukturen. Es arbeitet im UV-Bereich, so dass Benutzer sehr kleine Geometrien überprüfen können, ohne auf Bildqualität zu verzichten. Die Einheit kann Fehler so klein wie 0,005 Mikrometer in der Größe zu erkennen, so dass es extrem empfindlich. Zusätzlich kann die Maschine 8 bis 200 mm breite Substrate mit einem Dynamikbereich von bis zu 61 dB inspizieren. ICOS CI-9450 ist mit einer breiten Palette von Werkzeugen und Funktionen ausgestattet, die es ermöglichen, eine Vielzahl von Arten von Fehlern genau zu erkennen und zu analysieren. Es verfügt über eine fortschrittliche Optik, wie Quarzoptik, die einen hohen Kontrast und eine gleichmäßige Beleuchtung bietet, sowie eine elektromagnetische Feldkompensation für erhöhte Genauigkeit, auch bei Anwesenheit externer elektrischer Felder. Das Tool umfasst auch automatisierte Fehlererkennungs- und Analysealgorithmen sowie Software zur Visualisierung der erfassten Daten, so dass Benutzer ihre Fehler leicht analysieren können. Darüber hinaus verfügt KLA CI-9450 über eine intuitive Benutzeroberfläche, die ergonomisch auf einfache Bedienung und Navigation ausgelegt ist. Die visuelle Bedien- und Steuerschnittstelle ermöglicht eine schnelle und komfortable Programmierung, Einrichtung und Steuerung. Darüber hinaus eignet sich die Anlage für den flexiblen Einsatz, da sie leicht an sich ändernde Bedingungen oder Anforderungen angepasst werden kann. CI 9450 bietet eine robuste, zuverlässige und langfristige Lösung für die Masken- und Waferinspektion und bietet Benutzern die Möglichkeit, eine Vielzahl von Defekten mit hoher Genauigkeit und Betriebsgeschwindigkeit zu erkennen und zu analysieren. Es ist eine kostengünstige und effiziente Lösung für die Halbleiter- und optoelektronische Herstellung und Qualitätskontrolle.
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