Gebraucht KLA / ICOS CI 9450 #9263041 zu verkaufen

ID: 9263041
Weinlese: 2004
Lead inspection system 2004 vintage.
KLA/ICOS CI 9450 ist eine bekannte Masken- und Wafer-Inspektionsanlage für Halbleiterherstellung und Forschungszwecke. Es gewährleistet eine umfassende und zuverlässige Qualitätskontrolle bei der Inspektion integrierter Schaltungen. Das System verfügt über mehrere erstklassige Funktionen, die es ideal für die Bedürfnisse von Chipherstellern und Forschern machen. Einige dieser Qualitäten umfassen hohe Genauigkeit, hohe Geschwindigkeit, erhöhte Empfindlichkeit und Wirtschaftlichkeit. Erstens ist dieses Gerät mit einer ausgezeichneten Genauigkeitsbewertung ausgelegt. Es ist in der Lage, unglaublich kleine Defekte an Siliziumscheiben und Masken mit einer Genauigkeit von bis zu 2 µm zu messen und zu identifizieren. Seine beeindruckende Auflösung wurde entwickelt, um Fehler jeder Form und Größe auf diesen strukturierten Oberflächen effektiv zu erkennen. KLA CI 9450 kann auch Inspektionen mit unglaublich hoher Geschwindigkeit abschließen. Dies ist notwendig für Halbleiterfertigungs- und Forschungseinrichtungen, die eine schnelle Trendwende benötigen. Darüber hinaus bietet ICOS CI-9450 eine erhöhte Empfindlichkeit, d.h. es kann Fehler relativ einfach identifizieren und messen. Diese Maschine kann subtile Unterschiede in der Oberflächentopographie von Wafern und Masken erkennen, was eine verbesserte Rückverfolgbarkeit und Qualitätskontrolle ermöglicht. Darüber hinaus ist KLA/ICOS CI-9450 als wirtschaftlich tragfähige Lösung konzipiert. Es bietet eine optimierte Rendite auf Investitionen, so dass es eine beliebte Wahl für viele Unternehmen. Dieses Tool ist einfach zu installieren, zu verwenden und zu warten, so dass ein konsistenter und langfristiger Betrieb möglich ist. Darüber hinaus verfügt es über mehrere Sicherheitsfunktionen wie einen optionalen Luft/Wasser-Sensor und eine Windows 7-Zertifizierung, die beide dazu beitragen, die Benutzer vor potenziellen Gefahren zu schützen. Abschließend ist CI-9450 eine effektive und zuverlässige Masken- und Wafer-Inspektion. Es bietet hohe Genauigkeit, Geschwindigkeit, Empfindlichkeit und Wirtschaftlichkeit. Dieses Modell ist eine Lösung für Unternehmen in der Halbleiterherstellung und -forschung, die eine Qualitätskontrolle benötigen, da es entwickelt wurde, um selbst kleinste Fehler auf seinen strukturierten Oberflächen genau zu messen und zu identifizieren.
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