Gebraucht KLA / ICOS CI-G10 #293591822 zu verkaufen

KLA/ICOS CI-G10 ist eine Masken- und Wafer-Inspektionsanlage, die zur Erfüllung der High-End-Anforderungen der Halbleiterindustrie verwendet wird. Das System wird verwendet, um kritische Funktionen zu überprüfen und Muster in Masken und Photomasken integriert überwachen. Es verfügt über modernste Optik- und Optiktechnologie, einen fortschrittlichen Bildverarbeitungsalgorithmus sowie eine integrierte Fehlerüberprüfung und Metadatenverwaltung zur Unterstützung von Bildern. Die Leistungsfähigkeit und Inspektionsfähigkeit dieser Masken- und Wafer-Inspektionseinheit stellt sicher, dass sie für die Inspektion der komplexesten Layouts, einschließlich der Inspektion von Logik-, Speicher- und Analog/Mixed-Signal-Anwendungen, verwendet werden kann. Darüber hinaus kann die Maschine in Produktionslinien sowie in Forschung und Entwicklung eingesetzt werden. Das Gerät ist mit einem Full Automatic Die Positioner (FADP) für eine einfache und präzise Musterpositionierung ausgestattet. Der FADP wird auch von einem Sample-Stage-Aligner unterstützt, der eine automatische oder manuelle Ausrichtung ermöglicht. Dadurch wird sichergestellt, dass die Probe zur genauen Inspektion konsequent auf dem Sichtfeld positioniert wird. Die fortschrittliche Optik-Technologie und integrierte Software-Technologien dieses Tools bieten hochauflösende Bilder, klare Kontraste und helle, gleichmäßige Beleuchtung über das gesamte Sichtfeld. Dies gewährleistet einen breiten Inspektionsbereich, minimiert jedoch Pixelrauschen und bietet Kontrastverhältnisse bis zu 10.000: 1. Durch optimierte Beleuchtung wird die Erkennung auch feinster Mängel ermöglicht. Das Asset ist zudem mit einem integrierten, umfassenden Fehlerüberprüfungs- und Metadaten-Management-Modell ausgestattet. Auf diese Weise können Benutzer inspizierte Bilder und Metadaten einfach überprüfen und verwalten. Darüber hinaus kann das Gerät Statistiken über Ertrag, Fehlerzählung, Fehlerisolierbarkeit und Fehlererkennungseffizienz liefern. KLA CI-G10 ist ein hochqualitatives Masken- und Wafer-Inspektionssystem, das überprüfbare und wiederholbare Inspektionen ermöglicht. Seine überlegene Optik und hochauflösende Bildgebungsfunktionen, integrierte Fehlerüberprüfungsfunktionen und fortschrittliche Bildgebungsalgorithmen machen es zu einer ausgezeichneten Wahl sowohl für Produktions- als auch für Forschungs- und Entwicklungslabors.