Gebraucht KLA / ICOS CI-T120 #293792882 zu verkaufen

KLA/ICOS CI-T120 ist eine leistungsstarke Masken- und Wafer-Inspektionsausrüstung für die FAB-Umgebung. Mit fortschrittlichen Optik-, Laser- und Bildgebungstechnologien wurde die KLA CI T120 mit datengesteuerter Intelligenz zur präzisen Erkennung von On-Masken- und On-Wafer-Defekten entwickelt. Sein fortschrittliches beleuchtetes Laser Interferometry System (LIS) ermöglicht eine zerstörungsfreie, hochauflösende Abbildung von Oberflächentopographien (TES) zur genauen Fehlererkennung und -klassifizierung. ICOS CI T-120 verfügt über eine erweiterte Reihe von Filtern und Objektiven, die eine ultraschnelle Beleuchtung der zeilenweisen oder Matrixbereichsprüfung von Bereichen über 8.400 Millimeter Quadrat (mm2) ermöglichen. Die KLA- CI-T120 enthält außerdem eine leistungsstarke Bildverarbeitungsmaschine für eine umfassende Bildanalyse. Die integrierte Bibliothek mit datengesteuerten Algorithmen für künstliche Intelligenz kann Mikrodefekte erkennen und in unterschiedliche Größen, Intensitäten und topologische Gruppen einordnen. Darüber hinaus ist CI T-120 mit einem hochempfindlichen IPR-Algorithmus (Inspection Pattern Recognition) ausgestattet, um alle Arten von Brückenfehlern und Halbbrückenfehlern zu erkennen. Der IPR-Algorithmus ist in der Lage, auch kleinste Fehler - bis zu 50 Nanometer (nm) - zu erkennen und zu messen, indem Fehlermerkmale wie kaputte oder fehlende Brücken, Ablenkungen und Netzfehler erkannt und isoliert werden. ICOS CI T120 wurde entwickelt, um Masken- und Waferinspektionsprozesse zu optimieren. Die schlüsselfertige Einheit macht Setup und Kalibrierung schnell und einfach, während seine automatisierte Software eine schnelle Datenerfassung und Bildgebung ermöglicht. Es ermöglicht auch die Vollwafer-Inspektion großer Wafer mit einer Geschwindigkeit von bis zu 3,3 Wafern pro Stunde. Darüber hinaus tragen die internen Überwachungssysteme dazu bei, Ausfallzeiten von Geräten durch Echtzeit-Performance-Feedback und -Diagnosen zu reduzieren. CI-T120 erfüllt oder übertrifft sowohl US-amerikanische als auch internationale Standards für eine zuverlässige Fehlererkennung sowie Anforderungen an partikelarme Risiken. Darüber hinaus trägt diese Maschine dazu bei, den Bedarf an kostspieligen Nachbearbeitungsschritten zu reduzieren, da ihre überlegenen Fehlererkennungen dazu beitragen, dass die hochwertigsten Wafer und Masken den Herstellungsanforderungen entsprechen. Darüber hinaus bietet das Tool umfassende statistische und qualitative Prozesskontrolldaten für eine einfache Analyse und Berichterstattung. CI T120 ist eine ausgezeichnete Wahl für die Herstellung von Halbleitern und Photomasken, die zuverlässige und kostengünstige Inspektionslösungen erfordern. Mit der Kombination aus fortschrittlicher Optik, Bildgebung und künstlicher Intelligenz ist die KLA CI T-120 eine ideale Lösung für eine überlegene Qualitätskontrolle.