Gebraucht KLA / ICOS CI-T120 #293812251 zu verkaufen

KLA/ICOS CI-T120 ist eine in der Halbleiterindustrie eingesetzte Masken- und Waferinspektionsanlage, die zur Identifizierung und Bestimmung potentieller Halbleiterfehler ausgelegt ist. Es verwendet fortschrittliche Bildverarbeitungsalgorithmen, um Bilder von Masken und Wafern in extrem hoher Auflösung zu analysieren (was bis zu 16 Megapixel Bildverarbeitungsfähigkeit ist). Darüber hinaus verfügt das System über eine sechsachsige Waferstufe, eine vierachsige Maskenstufe und eine vertikale Ausrichtungslampe für Hochdurchsatz-Bildgebung für spezielle Aufgaben. Es hat auch die Fähigkeit, Muster wie Contact Image Sensor (CIS) zu analysieren, die zur automatischen Bewertung von werkzeugbezogenen Drahtprodukten und 3D-strukturierter Erkennung verwendet werden können, die automatisch statistisch signifikante Datenpunkte mit 3D-Geometriefehlererkennung aus demselben Vergleichsbild messen können. Die KLA CI T120 verfügt auch über integrierte Fehlerüberprüfungsfähigkeit, Fehlerdickfilmerkennung, TFT-Linienmessung und -überprüfung, Messungen eines gesamten Chips (was eine hochpräzise Fehlerüberprüfung ermöglicht) sowie die Fähigkeit, Löttropfen auf mögliche Fehler zu analysieren. Das Gerät ist mit zwei verschiedenen Scannern ausgestattet, dem „Maskenscanner“, der zur Inspektion von Masken vor der Belichtung ausgelegt ist, und dem „Wafer-Scanner“, der die Inspektion und Charakterisierung von Wafern während des Produktionsprozesses ermöglicht. Der Maskenscanner verwendet eine Hochleistungs-LED zur Beleuchtung und zwei hochauflösende Kameras, um vergrößerte Bilder der Masken zur präzisen Auswertung aufzunehmen. Der Wafer-Scanner umfasst eine fortschrittliche UV-Quell- und Bildverarbeitungsmaschine, die eine schnelle Erfassung und Sammlung von Bildern des gesamten Wafers ermöglicht. ICOS CI T-120 ist in der Lage, zuverlässige Inline-Inspektion mit extrem schnellen Datenerfassungsgeschwindigkeiten zu liefern. Der bildgebende Durchsatz wurde durch den Einsatz neuer, speziell für das Tool entwickelter Datenerfassungstechniken und Algorithmen erhöht. Die Betreiber können eine umfassende Fehlerinspektion durch drei Prüfmodi durchführen: integrierte Fehlerüberprüfung, Überprüfung bestimmter Fehlertypen oder Chip-Level-Inspektion. Dies ermöglicht eine schnelle Auswertung großer Datenmengen, ohne in zusätzliche Geräte investieren zu müssen. Zusätzlich können Inspektionsrezepte kombiniert werden, um die Effizienz zu maximieren und die Gurtbandinspektion und die Fehlermultiplikation zu reduzieren. Abschließend ist KLA/ICOS CI T-120 eine fortschrittliche und zuverlässige Masken- und Wafer-Inspektionsanlage, die leistungsstarke Fähigkeiten bietet, einschließlich sechzehn Megapixel-Bildgebung, sechsachsige Waferstufe, vierachsige Maskenstufe und vertikale Ausrichtungslampe und die Fähigkeit analysieren Muster. Es kann Fehler schnell beurteilen und die Halbleiterproduktion automatisieren, indem es umfassende Inspektionsmodi mit einer schnellen Auswertung großer Datenmengen kombiniert.