Gebraucht KLA / ICOS CI-T120 #9208705 zu verkaufen
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ID: 9208705
Weinlese: 2008
Inspection system
Modes:
BGA/CSP
CSP
LGA/Substrate
GW
QFN/BCC
Power consumption: 3.3 kW
Air pressure: 5.5 bar ± 0.7 bar (80 psi ± 10 psi)
Power supply: 115/230 VAC (±10%), 50/60 Hz, Single phase
2008 vintage.
KLA/ICOS CI-T120 ist eine Masken- und Waferinspektionsanlage, die zur Erkennung von Defekten in der Halbleiterherstellung verwendet wird. Das System besteht aus drei Komponenten: einem Teilsystem der Bildverarbeitung, einem Teilsystem der Waferinspektion und einem Teilsystem der Steuerung. Das Bildverarbeitungs-Subsystem verwendet ein bildgebendes Spektrometer, eine Autofokuseinheit und eine bildgebende Optikmaschine, um Bilder von einer Vielzahl von Substraten, einschließlich Photomasken, Wafern, Würfeln und anderen Oberflächen, zu sammeln und sie dann in Bilddatenpunkte umzuwandeln. Diese Bilddaten werden dann zur Fehlererkennung verwendet. Das Waferinspektions-Subsystem besteht aus einer Reihe fortschrittlicher Lithographiesysteme und einem Multi-Die-Alignment-Tool. Die Lithographiesysteme dienen dazu, die Waferoberfläche exakt zu mustern, um Gerätemerkmale zu erzeugen. Das Multi-Formausrichtungs-Asset wird verwendet, um Stempel genau zu lokalisieren, anzupassen und auszurichten, um sicherzustellen, dass sie alle in der gleichen Orientierung sind. Das Steuerungsteilsystem ist für die Kontrolle der Abläufe und die Gewährleistung der Genauigkeit der Prüfergebnisse zuständig. Das Teilsystem umfasst ferner einen zentralen Prozessor, eine Speichereinheit, eine Ein-/Ausgangssteuereinheit und eine Kommunikationsverbindung. Der Prozessor ist für die Steuerung der Modelloperationen zuständig, während die Speichereinheit die vom Bildverarbeitungs-Subsystem und den Lithographiesystemen gesammelten Daten speichert. Die Ein-/Ausgabeeinheit dient zur Datenübertragung von und zu dem Gerät, während die Kommunikationsverbindung die Verbindung des Systems mit anderen Systemen ermöglicht. KLA CI T120 Masken- und Wafer-Inspektionseinheit ist eine zuverlässige und genaue Maschine zur schnellen Lokalisierung und Quantifizierung von Defekten in der Halbleiterherstellung. Es ist ein ideales Werkzeug zur Qualitätssicherung bei der Herstellung von ICs und anderen Halbleiterbauelementen. Die Bildverarbeitungs- und Lithographiesysteme des Tools liefern präzise Ergebnisse mit ausgezeichneter Auflösung, während das Steuerungssubsystem dafür sorgt, dass das Asset effizient und zuverlässig arbeitet.
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