Gebraucht KLA / ICOS CI-T120 #9221136 zu verkaufen

KLA/ICOS CI-T120 ist eine Maske & Wafer Inspektion Ausrüstung entwickelt, um Fehler in den verschiedenen Schichten von Retikel und Wafer Material zu erkennen. Das System hat eine ultra-hohe Auflösung, um eine klare und genaue Inspektion der Materialien zu gewährleisten. Es bietet eine verbesserte Visualisierung von 3D-Topographie, Reflexion, Übertragung und fluoreszierenden Bildern auf Retikeln und Wafern. Das Gerät enthält eine erweiterte Suite von Bildverarbeitungswerkzeugen zur Unterscheidung potenzieller Fehler von regulären Mustern oder Funktionen. Es verwendet eine Vielzahl von Beleuchtungssystemen und Mikroskopen - einschließlich eines Laserstrahlschreibers und eines optischen Mikroskops -, um eine Vielzahl von Bildern mit präziser räumlicher Auflösung zu erfassen und ihre Intensitäten aufzuzeichnen. Dies ermöglicht den genauen Vergleich und die Analyse verschiedener Bilder (z.B. Bilder mit unterschiedlichen Vergrößerungen). Die KLA CI T120 verfügt auch über integrierte und automatisierte Fehlerinspektions- und Überprüfungsfunktionen, so dass der Benutzer mehrere Fehler an einem bestimmten Wafer leicht überprüfen und messen kann. Die Maschine ist in der Lage, die am häufigsten auftretenden Arten von Defekten zu identifizieren, einschließlich Partikeln, Linien, Blasen usw. Es kann auch leichte Schwankungen in der Oberflächenmorphologie und Schichten erkennen. ICOS CI T-120 kann mit Geschwindigkeiten von bis zu 200 Wafern pro Stunde arbeiten, was die Inspektionszeit zum Vergleich mit dem Prozessfenster erheblich reduziert. Darüber hinaus verfügt CI-T120 über eine umfassende Palette von Berichts- und Datenanalysetools. Benutzereinstellbare Berichte ermöglichen es dem Benutzer, Problembereiche schnell zu identifizieren und die Qualität seines Prozesses zu verbessern. Das Tool bietet Echtzeit-Steuerung und Anzeige verschiedener Parameter, um Prozessabweichungen besser zu beobachten. Die KLA CI T-120 ist somit ein unschätzbares Werkzeug für die Herstellung von Wafern und Masken, mit dem Hersteller Fehler im Produktionsprozess schnell erkennen und beheben können. Es hilft, die Kosten für uninspizierte oder überarbeitete Masken und Wafer zu reduzieren, und reduziert die Produktionszeit. Darüber hinaus ist das Asset aufgrund seines hohen Durchsatzes, seiner Auflösung und seiner automatisierten Fehlererkennung eines der besten automatischen Masken- und Waferinspektionssysteme, die heute verfügbar sind.