Gebraucht KLA / ICOS CI-T120 #9232787 zu verkaufen

KLA / ICOS CI-T120
ID: 9232787
Weinlese: 2008
Lead scanner 2008 vintage.
KLA/ICOS CI-T120 ist eine Masken- und Wafer-Inspektionsanlage, die für den Einsatz in der Halbleiterindustrie entwickelt wurde. Es ist ein fortschrittliches System, das die heutigen komplexen Halbleiterverarbeitungsanforderungen bedienen kann. Das Gerät nutzt fortschrittliche Bildgebungs- und Softwaretechnologien, um eine höhere Genauigkeit und Empfindlichkeit gegenüber herkömmlichen Systemen zu gewährleisten. KLA CI T120 kommt mit mehreren fortschrittlichen Technologien wie Hochleistungs-Infrarot-optische Inspektionsmöglichkeiten, die verwendet werden, um zugrunde liegende Chipstruktur Unvollkommenheiten zu erkennen, sowie fortschrittliche Laser-und bildgebende Werkzeuge, die eine präzise Abbildung und optische Inspektion von Maske und Wafer Formen ermöglichen. Darüber hinaus enthält die Maschine eine leistungsstarke Suchmaschine, die einen schnellen Abruf von Layoutzeichnungen und zugehörigen Dokumentationen sowie erweiterte automatische Werkzeugkalibrierungsfunktionen ermöglicht, die Genauigkeit und Konsistenz bei den gemessenen Messungen gewährleisten. Der modulare Aufbau von ICOS CI T-120 ermöglicht eine einfache Anpassung an unterschiedliche Anwendungsbedürfnisse. Verschiedene Optionen umfassen verschiedene bildgebende und optische Inspektionsstücke, die je nach Anwendungsfall leicht verändert werden können. Darüber hinaus enthält CI- T-120 Nahfeld-Bildgebung, die Fehler bis zu Sub-Mikron-Ebenen erkennen kann, bietet höhere Auflösung Bildgebung und komplexe Fehlererkennung Fähigkeiten. Das Asset nutzt verschiedene Optiken, um sowohl eine breite Wellenlängenabdeckung als auch schmalbandige Bildgebungsfunktionen bereitzustellen. Insgesamt ist ICOS CI T120 ein fortschrittliches Masken- und Wafer-Inspektionsmodell, das eine höhere Genauigkeit und Empfindlichkeit gegenüber herkömmlichen Methoden bietet. Seine modulare Konstruktion ermöglicht es, an verschiedene Anwendungen angepasst werden, und seine Hochleistungs-Infrarot-optische Inspektion und Near-Field-Imaging-Fähigkeiten bieten eine hervorragende Auflösung und komplexe Fehlererkennung.
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