Gebraucht KLA / ICOS CI-T120 #9281542 zu verkaufen

KLA/ICOS CI-T120 ist eine fortschrittliche Masken- und Wafer-Inspektionsanlage für Halbleiterfabriken. Es verfügt über eine verteilte Architektur aus vier Komponenten: Bildaufnahme/-verarbeitung, Bildanalyse, Systemsteuerung und Datenspeicherung. Die Bildaufnahme-/-verarbeitungskomponente enthält eine maßgeschneiderte hochauflösende CCD-Kameraeinheit zur Aufnahme von Bildern der Masken und der Wafer. Der Sensor hat insgesamt mehr als 2 Millionen Pixel und kann Bilder mit einer maximalen Auflösung von 10 Mikrometern aufnehmen. Darüber hinaus enthält die Maschine anspruchsvolle Bildverarbeitungshardware und Softwaremodule, die Fehler erkennen und klassifizieren können. Die Bildanalysekomponente verfügt über dedizierte Hard- und Softwaresysteme zur Analyse der aufgenommenen Bilder. Das Tool verwendet ausgefeilte Algorithmen, um Fehler zu erkennen und sie nach verschiedenen Eigenschaften wie Form, Größe, Kontrast und anderen Parametern zu klassifizieren. Darüber hinaus kann die Anlage E-Strahl, Röntgenstrahlen und andere Formen von Partikelstrahlinspektionen durchführen, um Masken- und Waferdefekte zu identifizieren. Die Modellsteuerungskomponente ist das Herzstück der KLA CI T120 und für den reibungslosen Betrieb der Geräte verantwortlich. Es enthält eine voll programmierbare Computerplatine zur Steuerung der Bildaufnahme, Analyse und Datenspeicherung. Zusätzlich steuert es die Parameter und Kalibrierungen des Systems, einschließlich der Auswahl der Belichtungszeit und der Häufigkeit der Analyse. Die Gerätesteuerung bietet auch Schnittstellen für die direkte Kommunikation mit anderen Systemen in der fab. Schließlich soll die Datenspeicherkomponente alle Daten der geprüften Masken und Wafer speichern. Es speichert sowohl die Rohdaten aus der Bildaufnahme und -verarbeitung als auch die Ausgabe der Analyse aus der Bildanalysekomponente. Darüber hinaus verfügt es über eine Datenbankmaschine zum Speichern von Testergebnissen, Wartungsprotokoll und anderen relevanten Informationen im Zusammenhang mit dem Betrieb des Werkzeugs. Insgesamt ist ICOS CI T-120 eine fortschrittliche Masken- und Wafer-Inspektion, die den Anforderungen der Halbleiterfabriken gerecht wird. Die hochgradig kundenspezifischen Hard- und Softwaresysteme ermöglichen es, Bilder mit einer Auflösung von 10 Mikrometern zu erfassen, Fehler zu erkennen und zu klassifizieren sowie alle gesammelten Daten zur weiteren Analyse und Fehlerbehebung zu speichern. Darüber hinaus sorgt die verteilte Architektur für Flexibilität und Skalierbarkeit sowie Kompatibilität mit verschiedenen fab-Setups.