Gebraucht KLA / ICOS CI-T120 #9293270 zu verkaufen

KLA/ICOS CI-T120 ist eine hochpräzise Masken- und Wafer-Inspektionsanlage, die eine schnelle, genaue und zuverlässige Inspektion einer Vielzahl von Substraten, einschließlich Masken und Wafern aller Größen, ermöglicht. Das System verwendet fortschrittliche optische Techniken, um Fehler an Maske und Wafern genau zu erkennen, zu untersuchen und zu messen, und kann auch verwendet werden, um Partikelfehler an der Oberfläche zu erkennen. Das Gerät verfügt über eine große, feste, telezentrische Bildsäule, die für maximalen Lichtdurchsatz und Bildgenauigkeit ausgelegt ist. Diese Bildsäule wird mit einer hochempfindlichen CCD-Kamera kombiniert, die hochwertige Bilder von Masken- und Waferoberflächen aufnimmt. Die Maschine kann auch auf unterschiedliche Substratgrößen und -formen eingestellt werden. Neben seinen bildgebenden Fähigkeiten verfügt die KLA CI T120 auch über ein High-End-bildgebendes Werkzeug, das hochauflösende Messungen und Untersuchungen von Partikelanomalien ermöglicht. Eine integrierte mechanische Stufe ermöglicht es dem Gerät, die Substrate inkrementell zu bewegen, was eine genaue Fehlererkennung und Bildgebung ermöglicht. Darüber hinaus ist das Modell auch mit einem automatisierten Maskenausrichter ausgestattet, der entworfen wurde, um jedes Maskendesign genau auszurichten und zu messen und die Genauigkeit und Wiederholbarkeit zu gewährleisten. ICOS CI T-120 verfügt zudem über einen hocheffizienten Fehlerüberprüfungs- und Entscheidungsprozess. Das Gerät erstellt einen detaillierten Analysebericht mit Fehlerlage, -größe und -eigenschaften, der eine schnelle und genaue Erkennung und Klassifizierung von Fehlern ermöglicht. Darüber hinaus verfügt das System über leistungsstarke Benutzeroberflächen und Automatisierungsfunktionen, mit denen Benutzer Inspektionen schnell und einfach anpassen, Wafer hinzufügen und entfernen sowie Bilder und Berichte anzeigen können. Insgesamt ist CI T120 eine leistungsstarke, aber intuitive Masken- und Wafer-Inspektionseinheit, die zur Erkennung und Messung unterschiedlichster Defekte entwickelt wurde. Die Maschine ist in der Lage, extrem hohe Genauigkeit zu bieten und bietet eine Kombination aus detaillierten Fehlerinformationen und Benutzeroberflächenfunktionen. Es ist ideal für Anwendungen wie Hochvolumenmaske und Waferinspektion oder Chargenprozesssteuerung. Darüber hinaus eignet sich CI-T120 dank seines flexiblen Designs für den Einsatz in vielen anderen Inspektions- und Messtechnik-Anwendungen.