Gebraucht KLA / ICOS CI-T120 #9360928 zu verkaufen

KLA / ICOS CI-T120
ID: 9360928
Weinlese: 2006
Lead scanner 2006 vintage.
KLA/ICOS CI-T120 ist eine Masken- und Waferinspektionsanlage, die eine zuverlässige, komplette Inspektionslösung bietet. Das System enthält integrierte XY-Stufen, um eine präzise Kontrolle bei der Platzierung von Wafern oder Masken innerhalb des Geräts zu ermöglichen. Die Maschine verwendet ein 2D-Prüfoptik-Werkzeug, das für die großflächige und feine Bildgebung optimiert ist. Die Optik besteht aus einer hochpräzisen motorisierten XY-Bühne, einer telezentrischen optischen Brennweite und einer Linescan oder CCD-Kamera. Das Sichtfeld und die Tiefenschärfe sind einstellbar und ermöglichen eine optimale Bilderfassung von Wafern oder Masken mit unterschiedlichen Eigenschaften und Dicken. Das Modell ist mit Strom ausgestattet, um ein Beleuchtungssteuergerät, einen Drucker/Plotter, einen Bildprozessor und eine Bildanalyseeinheit zu steuern. Das Beleuchtungssystem wurde entwickelt, um eine gleichmäßige Leuchtdichte über das Sichtfeld zu gewährleisten und Ungleichmäßigkeiten zu beseitigen, was zu einer verbesserten Bildqualität und sogar zur Erkennung von Fehlern führt. Der Drucker/Plotter ermöglicht das Laden von Pfad-Programmdateien und das Drucken von Bildern zur Überprüfung. Der Bildprozessor ermöglicht es dem Bediener, Parameter wie Schwellenwert oder Graustufe, Kontrast und Vergrößerung anzupassen. Es verfügt über eine integrierte Bildbibliothek und kann Inspektionsbilder mit Referenzbildern vergleichen, um Abweichungen zu erkennen. Die Bildanalyseeinheit ermöglicht eine automatisierte Fehlererkennung, einschließlich der Erkennung und Messung von Fehlern. Das Gerät hat eine hohe Erkennungsempfindlichkeit und kann sowohl In-Specification als auch Out-of-Specification-Defekte erkennen. Es verfügt auch über eine effiziente Fehlermanagement-Maschine, so dass Bediener Fehler überprüfen und klassifizieren. KLA CI T120 ist ein zuverlässiges, umfassendes Masken- und Wafer-Inspektionswerkzeug, das eine hohe Genauigkeit und Auflösung bietet. Es wurde entwickelt, um sowohl nicht-dimensionale als auch dimensionale Merkmale zu erkennen und zu messen, und kann leicht für bestimmte Anwendungen angepasst werden. Seine robuste Architektur macht es zu einem idealen Kapital für Fehlererkennungs- und Messanwendungen.
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