Gebraucht KLA / ICOS CI-T120 #9407127 zu verkaufen

KLA/ICOS CI-T120 ist eine automatisierte Masken- und Wafer-Inspektionsanlage, die eine hochpräzise visuelle Inspektion von Photomasken, Mikrovia-Masken und Halbleiterscheiben bei bis zu 10.000-facher Vergrößerung ermöglicht. Mit der neuesten hochauflösenden Optik bietet KLA CI T120 eine automatisierte Fehlerüberprüfung und Messung von Partikelverunreinigungen auf Wafern und strukturierten Photomasken. Das System verfügt über ein optisches Mikroskop mit CCD-Kameras und erweiterten Bildverarbeitungsalgorithmen, die eine hochpräzise Wafer- und Maskendefekterkennung, -klassifizierung und -analyse in nur wenigen Minuten ermöglichen. Die automatische Ausrichtung stellt sicher, dass Bilder genau registriert werden, während die Bildverarbeitungseinstellungen für verschiedene Arten von Fehlern optimiert werden können. Dank der Flexibilität des Geräts können sich verändernde oder erweiterende Anforderungen wie mehrere Produktionslose und unterschiedliche Fehlersuchkriterien unterstützt werden. ICOS CI T-120 umfasst erweiterte Automatisierungsfunktionen, um Inspektionsaufgaben zu optimieren. Autofokus- und Autokorrekturmerkmale gewährleisten eine zuverlässige Detektion von opaken Partikeln und anderen Defekten von anspruchsvollen Oberflächen. Intuitive Software bietet eine einfach zu bedienende Oberfläche mit leistungsstarken Suchfunktionen, um bestimmte Fehlertypen schnell zu finden. Drag-and-Drop-Fenster können verwendet werden, um Bildunterscheidungen zu vergleichen und neu zu ordnen, um Inspektionskriterien schnell und genau anzupassen. Die fortschrittlichen Verunreinigungs- und Fehlerverfolgungsfunktionen der Maschine wurden entwickelt, um Zykluszeiten zu reduzieren und die Leistung von Wafer, Maske und Ertrag sicherzustellen. Das umfassende Berichtstool generiert automatisch eine detaillierte Analyse quantitativer Fehlerdaten wie Grad, Fläche, Anzahl und Größe, während integrierte Menüoptionen es Anwendern ermöglichen, Daten innerhalb von Sekunden zu überprüfen, zu analysieren und zu exportieren. Die robuste und präzise KLA CI-T120 Mask und Wafer Inspection Asset bietet die nötige Flexibilität und Automatisierung, um sich verändernde und wachsende Anforderungen problemlos zu bearbeiten. Mit seiner Kombination aus hochauflösender Optik und fortschrittlicher Bildverarbeitung ermöglicht CI T120 eine hochgenaue Inspektion von Wafern und Photomasken mit schneller Fehlererkennung und -klassifizierung. Die intuitive Software des Modells, begleitet von fortschrittlichen Automatisierungsfunktionen, garantiert schnelle und zuverlässige Ergebnisse - damit Kunden ihren Produktionsprozess optimieren und eine überlegene Produktqualität gewährleisten können.