Gebraucht KLA / ICOS CI-T130 #293828078 zu verkaufen

KLA / ICOS CI-T130
ID: 293828078
Scanner Power supply: 230V, 1PH/50Hz, 32A.
KLA/ICOS CI-T130 ist eine automatisierte Masken- und Wafer-Inspektionsanlage auf Basis von Hellfeldbildgebung. Das System verfügt über ein 390 mm x 520 mm großes Sichtfeld, das sich ideal für die Inspektion großer Bereiche von Photomasken und Wafern eignet. KLA CI-T130 ist mit einer hochauflösenden CCD-Kamera und LED-Lichtquellen ausgestattet und verwendet erweiterte Bildverarbeitung und kundenspezifische Algorithmen. Das System ist in der Lage, Fehler auf der Oberfläche einer Photomaske und eines Wafers mit einer Genauigkeit von 2-3 um vollständig automatisiert zu erkennen und zu visualisieren. Die Software des Geräts ermöglicht eine präzise 3D-Messung von Defekten mit einem Signal-Rausch-Verhältnis von 4: 1. Seine benutzerfreundliche grafische 3D-Benutzeroberfläche (GUI) ermöglicht die Anpassung der Prüfparameter wie Erkennungsschwelle und automatische Bildanalyse. Benutzer können auch verschiedene Kameraeinstellungen, wie Verstärkung, verschiedenen Bereichen des Wafers zuweisen, um optimierte Ergebnisse zu erzielen. Bei Wafern kann die Maschine fehlende und falsche Polaritätsfehler über eine Metallfehleruntersuchung sowie fehlende oder zusätzliche über eine Polyfehleruntersuchung erkennen. Zusätzlich kann es Kontaktöffnungen und kurze Hosen, gebrochene lithographische Linien und Brückenfilets erkennen. Die Kratz-/Druckfarbenmessung des Werkzeugs kann zwischen mineralischen und organischen Verunreinigungen unterscheiden sowie Schmutz und Umgebungsverunreinigungen messen. Weitere Merkmale sind Lichtfeld, IR-Inspektion, Feature Fracturing, Beschichtung, Oberflächenbelastung und Verschmutzungsabdeckungsmessungen. ICOS CI-T130 bietet eine Sauberkeitsprüffähigkeit, die entwickelt wurde, um Fallout-Partikel, Kratzer und andere Verunreinigungen zu erkennen, die traditionellen Reinigungsprozessen entgangen sind. Das Asset bietet nicht nur absolut enge Toleranzfußabdrücke und Linienbreitenmessungen, sondern bietet auch eine vollständige Submikron-Topographie der kritischen Merkmalsbereiche. Die Materialklassifizierung ist auch bei CI-T130 möglich. Der reibungslose und zuverlässige Betrieb des Modells macht es ideal für die Masken- und Waferinspektion und sorgt für optimale Ergebnisse, unabhängig von der Größe oder Komplexität des Auftrags. Seine intuitive Benutzeroberfläche macht es sowohl für Anfänger als auch für erfahrene Techniker geeignet, während seine fortschrittlichen Funktionen die Qualitätssicherung einfacher und effizienter machen. Mit KLA/ICOS CI-T130 hat KLA eine leistungsstarke Masken- und Wafer-Inspektionsausrüstung geschaffen, die präzise und einfach zu bedienen ist.
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