Gebraucht KLA / ICOS CI-T130 #9202297 zu verkaufen

KLA/ICOS CI-T130 ist eine Masken- und Waferinspektionsanlage. Es wurde entwickelt, um lichtempfindliche Masken, Wafer und Bänder in einer einzigen, automatisierten Plattform zu überprüfen. Das System ist ausgelegt für hohen Durchsatz, unübertroffene Genauigkeit, unübertroffene Wiederholbarkeit und überlegene Fehlererkennung und die Fähigkeit, Fehler auf diesen Oberflächen schnell zu erkennen und zu unterscheiden. Kerntechnologie der KLA CI-T130 ist die integrierte Inspektionsmaschine. Es kombiniert eine Vielzahl von elektrischen bildgebenden, physikalischen und optischen bildgebenden Technologien, um Fehler zu erkennen und zu charakterisieren, die sonst unentdeckt bleiben können. Das optische Bordmikroskop bietet hochauflösende Inspektions- und Bildgebungsfunktionen. Die Einheit verwendet einen Festkörperlaser, um sich auf KE-Kanten zu konzentrieren, um subtile Unterschiede in Mustern und Größen von KEs zu erkennen, die auf Masken und Wafern vorhanden sind. Die Maschine enthält auch fortschrittliche Software, Algorithmen und Werkzeuge zur Unterstützung der Fehlerinspektion, Analyse und Korrektur. Es verfügt über flexible Inspektionsmodi, die es einfach machen, Inspektionen für einzelne Workflows zu programmieren und anzupassen. Es ist auch zu hohem Durchsatz fähig und kann über 800 Wafer oder Masken pro Stunde verarbeiten. ICOS CI-T130 verwendet eine einzigartige Fehlerüberprüfungstechnologie, um Fehler durch Fehlalarme zu erkennen. Diese Technologie analysiert Wafer- oder Maskenfehlerbilder, um Fehler schnell zu erkennen und zu identifizieren, auch wenn herkömmliche Fehler nahe beieinander liegen. Damit kann er auch kleinste Mängel, die für die Genauigkeit der Produktion unerlässlich sind, erfolgreich identifizieren. Es enthält auch automatisierte Defect Engineering-Tools zur Unterstützung bei Reparatur- und Debug-Aufgaben sowie technische Informationen. Das Tool wird weiter durch UCK Predictive Analytics und andere erweiterte Erkennungsfunktionen zur Identifizierung potenzieller Fehler unterstützt. Es enthält fortschrittliche digitale Algorithmen und Werkzeuge zur Charakterisierung von Fehlern, um sicherzustellen, dass sie schnell und genau identifiziert werden. Es ist auch in der Lage, fortschrittliche messtechnische Dienstleistungen zur Messung und Analyse von Waferparametern anzubieten, um den Produktionsprozess zu optimieren. Insgesamt ist CI-T130 eine branchenführende Masken- und Wafer-Inspektion, die maximale Produktionseffizienz und Ertrag gewährleistet. Seine fortschrittliche Inspektionsmaschine, flexible Inspektionsmodi und Fehlerüberprüfungstechnologien sorgen für branchenführende Genauigkeit und Wiederholbarkeit. Darüber hinaus bietet es leistungsstarke Analyse- und Messtechnik-Funktionen zur Optimierung von Produktionsprozessen.