Gebraucht KLA / ICOS CI-T130 #9256514 zu verkaufen

KLA/ICOS CI-T130 Mask & Wafer Inspection Equipment ist eine führende automatisierte Inspektionsplattform zur Inspektion einer Reihe von Halbleiterteilen, einschließlich Masken und Wafern. Das System ermöglicht es Produktionsingenieuren, Fehlererkennung, Fehlercharakterisierung und andere wichtige Aufgaben schnell und genau durchzuführen. Eine schnelle Verarbeitungseinheit mit fortschrittlichen Algorithmen und hoher Automatisierung ermöglicht das hochpräzise und effiziente Scannen von Geräten und liefert äußerst genaue und zuverlässige Fehleranalyseergebnisse. KLA CI-T130 scannt mit einem 3D-Bildsensor und einem 2D-Sensor Objekte nach Defekten. Der 3D-Bildsensor kann alle Arten von Defekten erkennen, einschließlich Kratzer, Schmutz, Kontamination und andere Arten von physischen Schäden, die nicht durch normale optische Techniken erkannt werden können. Es verfügt über eine hochauflösende Bildgebung von bis zu 30 μ m und eine Auflösung von 0,1 μ m Fehlergröße. Der 2D-Sensor scannt bis zu 50 μ m in das Substrat der Maske/Wafer und misst chromatische Verschiebung von Mustern, um Pass oder Fail zu bestimmen. ICOS- CI-T130 können Fehler an allen Arten von Masken und Wafern erkennen und identifizieren, einschließlich DRAMs, Flash Memory, SOI (Silicon on Insulator) Wafer, 3D-NAND und andere komplexe Halbleiterbauelemente. Die Maschine unterstützt auch eine Reihe von Inspektionsmodi, wie Makroinspektion, Mikroinspektion und geringe Vergrößerung Inspektion. Die hohe Abtastgeschwindigkeit ermöglicht eine schnelle und zuverlässige Inspektion für eine große Anzahl von Objekten in kurzer Zeit. Das Werkzeug ist in der Lage, defektbasierte Klassifizierung, Daten-korrelierte Cross-Function-Inspektion und Musteranpassung. Es ermöglicht Benutzern, gescannte Bilder effektiv nach einer Vielzahl von Defekteigenschaften aus mehreren Lichtquellen und Wellenlängen zu suchen und zu vergleichen. Dies hilft Benutzern, mögliche Probleme mit Masken/Wafern genau zu identifizieren. Das Asset verfügt auch über erweiterte Fehlerverfolgungsfunktionen, mit denen Benutzer Muster wiederkehrender Fehler schnell identifizieren und vergleichen können. Insgesamt ist CI-T130 ein effizientes und zuverlässiges Masken- und Wafer-Inspektionsmodell, das Halbleiteringenieuren hilft, Masken-/Wafer-Defekte schnell zu erkennen und zu identifizieren. Seine erweiterten Funktionen und Fähigkeiten helfen, hochgenaue und zuverlässige Fehleranalyseergebnisse schnell bereitzustellen.