Gebraucht KLA / ICOS CI-T130 #9304378 zu verkaufen

KLA/ICOS CI-T130 ist eine Masken- und Waferinspektionsanlage zur Inspektion von Halbleitermasken und Wafern in der Mikroelektronikindustrie. Das System kombiniert fortschrittliche Bildverarbeitungssoftware mit fortschrittlicher Optik, einschließlich einer hochmodernen Zeilenkamera und einem optischen Profilsensor. So entsteht eine leistungsstarke und automatisierte Inspektionslösung, die präzise Fehleranalysen und schnelle Ergebnisse liefert. Die KLA CI-T130 verwendet eine Visiononix Falcon 5V4 Elektronenstrahl-Inspektionseinheit, um eine vollständige 3D-Oberflächenanalyse sowohl mit Ober- als auch mit Seitenansicht zu ermöglichen. Seine vier Projektionen und Objektiv bieten 0,35 Mikron Auflösung Abbildung von Mustern so klein wie 0,2 Mikron ohne Filter. Dadurch kann die Maschine kleinste Mängel genau erkennen. Das Werkzeug ist auch mit einer Hochgeschwindigkeits-ultraempfindlichen Zeilenkamera ausgestattet. Diese Kamera hat eine Auflösung von 3,5 Mikron für die Fehlererkennung und kann sowohl große als auch kleine Strukturen mit ausgezeichneter Bildklarheit erfassen. Der optische Profilsensor misst die Tiefe von Merkmalen wie Kontaktlöchern oder erkennt erhabene, vorstehende oder hinterschnittene Merkmale auf der Wafer- oder Maskenoberfläche. Neben Inspektionsmöglichkeiten bietet ICOS CI-T130 Funktionalität für Datenvergleich, Fehleranalyse und Ertragsanalyse. Es verwendet einen integrierten Muster-Matching-Algorithmus zur Erkennung und Klassifizierung von ertragskritischen Fehlern. Die Inspektionsanlage bietet zudem eine grafische Schnittstelle zur Einrichtung von Inspektionen und Betrachtungsergebnissen. CI-T130 ist für eine einfache Bedienung mit einer benutzerfreundlichen grafischen Benutzeroberfläche und einem intuitiven Workflow konzipiert. Es unterstützt auch mehrere Sprachen und verfügt über erweiterte Grafiken bei der detaillierten Vereinfachung zu unterstützen. Es verfügt über ein genaues Bühnenpositionierungsmodell und kann mit optionalem Zubehör für die Nassverarbeitung oder spezielle Anwendungen erweitert werden. Abschließend ist KLA/ICOS CI-T130 eine fortschrittliche Masken- und Wafer-Inspektionsausrüstung, die ausgefeilte Bildgebungs- und Musteranpassungsalgorithmen mit fortschrittlichen optischen und 3D-Bildgebungssystemen für eine schnelle und präzise Bildgebung kombiniert.