Gebraucht KLA / ICOS CI-T1X0 #9351871 zu verkaufen

KLA/ICOS CI-T1X0 ist eine Masken- und Waferinspektionsanlage zur Herstellung integrierter Schaltungen. Es wird speziell zur Inspektion von Mustern verwendet, die auf den im IC-Herstellungsprozess verwendeten Masken und Wafern gebildet werden. Das System besteht aus mehreren Komponenten, darunter automatisierte Mustererkennung, Oberflächeninspektionen, Profilmessungen, Überlagerungsmessung, Kühlduschen und Lichtquellen. Die automatisierte Mustererkennung in der UCK- CI-T1X0-Einheit wird verwendet, um das Vorhandensein von Fehlern in Maske und Wafern zu ermitteln. Es prüft eine Vielzahl von Merkmalen, wie Kontakte, Vias, Widerstände und Kondensatoren. Es sucht auch nach Defekten und Verunreinigungen an den Oberflächen und Kanten der Wafer. Die Oberflächeninspektionen dienen zur Identifizierung von Fehlern oder Fremdmaterial auf den Oberflächen der Maske und der Wafer. Diese Oberflächen können über eine Reihe von Vergrößerungen mit Hellfeld, Dunkelfeld und Kontrast invertierenden Techniken inspiziert werden. Die Profilmessungen können zur Messung der Dicken- und Dickenänderungen der Masken und Wafer verwendet werden. Diese Messungen dienen auch zur Bestimmung der Zusammenhänge zwischen den verschiedenen Materialschichten und Substraten sowie etwaiger Hohlräume oder sonstiger Diskontinuitäten. Mit Hilfe der Overlay-Messungen wird die Ausrichtung der verschiedenen Materialien und Masken im IC-Fertigungsprozess gemessen. Es hilft auch, sicherzustellen, dass die verschiedenen Schichten richtig miteinander verbunden sind. Die Kühlduschen werden verwendet, um die Maske und die Wafer während des Inspektionsprozesses kühl zu halten. Dies trägt dazu bei, die Gefahr von thermischen Schäden an den Materialien zu verringern. Schließlich sollen die Lichtquellen in ICOS CI T1X0 die Materialien bei unterschiedlichen Wellenlängen beleuchten. Dies ermöglicht eine detaillierte Analyse der Masken und Wafer, die etwaige Fehler oder Verunreinigungen aufdeckt. Insgesamt ist KLA/ICOS CI T1X0 Masken- und Wafer-Inspektionsmaschine ein unschätzbares Werkzeug zur Sicherstellung der Qualität integrierter Schaltungen, die im IC-Herstellungsprozess hergestellt werden. Dank automatisierter Mustererkennung, Oberflächeninspektionen, Profilmessungen, Überlagerungsmessungen, Kühlduschen und Lichtquellen kann das Werkzeug alle in den ICs vorhandenen Fehler genau erkennen.