Gebraucht KLA / ICOS CI-T1X0 #9351874 zu verkaufen

KLA/ICOS CI-T1X0 ist eine Masken- und Waferinspektionsanlage, die für die leistungsstarke Fehlerinspektion in hochentwickelten Technologieknoten entwickelt wurde. Es bietet eine breite Palette von Konfigurationen, die es Kunden ermöglichen, ihre Inspektionssysteme für optimierte Inspektionsleistung und für Wafer- und Maskengrößen anzupassen. Die Basiskonfiguration umfasst ein 6-Zoll-Scanmodul mit 8 Zoll, das hochauflösende Inspektionsmöglichkeiten ermöglicht. Darüber hinaus ist das System mit einer Vielzahl von Wafergrößen bis 200 mm kompatibel. Die KLA- CI-T1X0 verfügt über eine Beleuchtungseinheit, die unter dem Namen „Air Coated High-Numerical Aperture (AHN) Microscope“ bekannt ist. Diese hochpräzise optische Bildgebungsmaschine wurde entwickelt, um auch kleinste Defekte an Masken- und Waferoberflächen zu erkennen und zu fokussieren. Zusätzlich ist die Lichtquelle im Werkzeug ein planarer Beleuchter, der für eine perfekte Bildausrichtung eingestellt werden kann. Die integrierte High-Definition-Kamera sorgt für schnelle und genaue Fehlerbilder. Es ist mit einem Hi-Vision Sensor ausgestattet, der darauf abgestimmt ist, auch kleinste Defekte ab 0,8 μ m aufzunehmen. Darüber hinaus ist das Asset mit ImageFocus + -Algorithmus programmiert, der hilft, den Kontrast und die Auflösung zu verbessern und eine genaue Fehlererkennung zu gewährleisten. Das Modell ist mit langlebigen, vibrationsbeständigen Komponenten wie dem hartbeschichteten Scheibenfutter gebaut, um eine hohe Genauigkeit beim Scannen und Abbilden zu gewährleisten. Darüber hinaus verfügt ICOS CI T1X0 über leistungsstarke Rechenfunktionen, mit denen die vom Mikroskop und der Kamera empfangenen Daten verarbeitet werden können. Für jede Wafer-Scan-Sitzung generiert und speichert das Gerät einen detaillierten Fehlerbericht, einschließlich Standort, Größe und Typ des Fehlers. Die KLA CI T1X0 wird mit den neuesten Softwaretechnologien und fortschrittlichen Analysen weiterentwickelt, um eine genaue Waferinspektion und schnelle Lösungen für komplexe Oberflächenprobleme zu unterstützen. Erweiterte Prozesssteuerungssoftware ist ein leistungsfähiges Analysetool, das Erkenntnisse liefert, die Trends und Fragen von Interesse in Oberflächenbedingungen und Defekten identifizieren. Insgesamt ist KLA/ICOS CI T1X0 ein leistungsstarkes Masken- und Wafer-Inspektionssystem für fortschrittliche Technologieknoten. Es ist eine äußerst zuverlässige und effiziente Einheit, die qualitativ hochwertige Inspektionsergebnisse liefert und eine genaue Erkennung auch kleinster Fehler gewährleistet.