Gebraucht KLA / ICOS CI T620 #9237128 zu verkaufen

KLA/ICOS CI T620 ist eine hochentwickelte automatisierte Masken- und Waferinspektionsanlage. Es verfügt über ein hochauflösendes Farb-CCD-Bildgebungssystem mit einer minimalen Funktionsgröße von 0,94 Mikron und einer Genauigkeit der Ausrichtung von 0,75 Mikron. Die fortschrittliche bildgebende Einheit verwendet einen quadratischen Transformationsalgorithmus, um Fehler im Muster zu analysieren und zu erkennen, wodurch eine zuverlässige bildgebende und genaue Fehlererkennung gewährleistet ist. Darüber hinaus verfügt die Maschine über einen Hochgeschwindigkeits-optischen Transceiver mit Datenraten bis zu 200MHz. Dies ermöglicht das Hochgeschwindigkeits-Scannen von Masken, Wafern und anderen Herstellungsprozessen. Darüber hinaus bietet es ein innovatives Fehlererkennungswerkzeug, das sowohl visuelle Inspektion als auch automatisierte elektrische Tests für einen effizienten, umfassenden Erkennungsprozess kombiniert. Die KLA CI T620 wurde entwickelt, um den Masken- und Waferinspektionsprozess zu automatisieren und zu rationalisieren. Es ist in der Lage, eine Vielzahl von Masken- und Waferdefekten zu erkennen und kann während der Fertigungs- und Qualitätssicherungsstufen des Produktionsprozesses eingesetzt werden. Darüber hinaus kann das Asset verwendet werden, um „Killer“ -Defekte zu erkennen, die, wenn sie nicht erkannt werden, zu Produktschäden oder Fehlfunktionen führen können. Um den unterschiedlichen Anforderungen verschiedener Hersteller gerecht zu werden, können ICOS CI-T620 Einstellungen für jede Anwendung angepasst werden. Dies reicht von vollautomatisierten Modi bis hin zu tieferen manuellen Modi. Darüber hinaus integriert ICOS CI T620 eine Reihe von Software- und Hardwarekomponenten, darunter einen Programmable Logic Controller (SPS) und eine Vielzahl von Sensor- und Aktortechnologien. Dies ermöglicht optimierte Inspektionsergebnisse unter unterschiedlichen Umwelt- und Produktionsbedingungen. Insgesamt ist CI T620 ein effizientes, leistungsstarkes Masken- und Wafer-Inspektionsmodell, das die Qualitätskontrolle steigern und Produktionsfehler reduzieren soll. Die fortschrittliche bildgebende Ausrüstung, die Vielzahl der technologischen Merkmale und die Vielseitigkeit machen es zu einer idealen Option für Hersteller in der Halbleiterherstellung und -inspektion.