Gebraucht KLA / TENCOR 0116358-001-REV A #293649651 zu verkaufen

KLA / TENCOR 0116358-001-REV A
ID: 293649651
MI ZCB Assy PHX E84 LT ( EW1401 ).
KLA/TENCOR 0116358-001-REV Eine „Mask & Wafer Inspection“ -Ausrüstung ist ein Wafer- und Reticle-Inspektionssystem mit Dual-Kamera-Optik und einer Pixelgröße von (20µm), um branchenführende messtechnische Ergebnisse zu liefern. Das Gerät besteht aus mehreren Komponenten, darunter eine Hochvergrößerungsfarbkamera, eine HDR-Bildverarbeitungsmaschine (High Dynamic Range), eine Probenstufe mit Hochgeschwindigkeitsbewegung und eine Vielzahl spezialisierter Softwareprogramme. Die hochvergrößerte Farbkamera ermöglicht eine detaillierte Inspektion und Analyse von ungemusterten und gemusterten Waferoberflächen und Defekten. Darüber hinaus bietet die Kamera hochauflösende Bilder, die eine quantitative Analyse isolierter Defekte sowie eine automatische Kantenerkennung ermöglichen. Das hochdynamische Bildgebungswerkzeug bietet eine erhöhte Fehlerempfindlichkeit und ermöglicht eine detailliertere Analyse. Dieses Asset wurde entwickelt, um Kantendetails und lokale Funktionen mit Hilfe einer Vielzahl spezialisierter Algorithmen zu erkennen und ein verbessertes Verständnis des Prozessausfalls in der Halbleiterherstellung zu ermöglichen. Die Probenstufe bietet eine Reihe von Hochgeschwindigkeitsbewegungen, die eine schnelle und genaue Inspektion hoher Wafermengen ermöglichen. Jedes Segment der Probenstufe besteht aus zwei Linearmotoren, die eine extrem schnelle und präzise Bewegung ermöglichen. Neben der Hardware von KLA 0116358-001-REV A gibt es verschiedene spezialisierte Softwareprogramme, die komplette messtechnische Ergebnisse liefern. Die Software umfasst Systeme zur Fehlerüberprüfung und -klassifizierung, Fehlerinspektion, Stempelabbildung, Wafermessung und Bildanalyse. Darüber hinaus ermöglichen automatisierte Algorithmen eine effiziente und genaue Wafer-Map-Generierung mit reduzierter Zeit und Kosten. Insgesamt ist TENCOR 0116358-001-REV A 'Mask & Wafer Inspection' Modell entworfen, um hochauflösende, genaue Messungen zur Verfügung zu stellen und gleichzeitig Zykluszeiten und Kosten zu reduzieren. Seine leistungsstarken Funktionen und spezialisierte Software liefern vollständige messtechnische Ergebnisse und bieten ein umfassendes Verständnis des Prozessausfalls in der Halbleiterherstellung.
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