Gebraucht KLA / TENCOR 201 #293651161 zu verkaufen

KLA/TENCOR 201 ist eine hochmoderne Masken- und Waferinspektionsanlage, die Halbleiterherstellern im Produktions- und Nachproduktionsprozess hochauflösende Bilder und Fehlererkennung bietet. Das System wurde entwickelt, um die Inspektion zu optimieren und die schnelle Identifizierung von Fehlern und Merkmalen an Masken- und Wafergeometrien zu ermöglichen. Mit einer verbesserten Kombination aus elektrooptischen und kurzwelligen Technologien kann die technische Einheit KLA 201 nanoskalige Auflösungen erzielen und gleichzeitig einen hohen Durchsatz und Ertragsleistung erhalten. Die Maschine besteht aus mehreren Komponenten, die die Leistung ihrer neuesten optischen Technologie Gen 3 nutzen. Es verfügt über eine Reihe von automatisierten Vision-Systemen, die kleinere Schwankungen in der Maske und Wafer-Substrate erkennen, sowie die Bildung von Defekten. Das Werkzeug hat auch die Fähigkeit, eine Reihe von bearbeiteten Substraten von einfachen Strukturen zu komplexen Designs zu überprüfen. Das Asset ist mit einem hochauflösenden Imaging-Modell ausgestattet, das eine präzise Erkennung und Klassifizierung von Fehlern ermöglicht. Darüber hinaus verfügt das Gerät über eine Lichtquelle mit hoher Leistungsinspektion, um eine konsistente und genaue Bewertung der Defekte des Substrats zu gewährleisten. Das optische System TENCOR 201 umfasst auch Bildanalyse und Messtechnik-Software zur Fehlererkennung und Prozessidentifizierung. Es verwendet erweiterte Mustererkennungsalgorithmen, um kleinere Fehler zu identifizieren, die andernfalls vermisst werden können. Darüber hinaus bietet das Gerät die Möglichkeit, verschiedene Merkmale von Masken und Wafern zu identifizieren und zu analysieren. Dies ermöglicht die Erkennung von Korrekturen oder Verbesserungen, die erforderlich sein können, bevor die Vorrichtung mit weiteren Prozessschritten fortfährt. Die Maschine ist mit einer Reihe von fortschrittlichen Werkzeugen und Werkzeugsätzen ausgestattet, um verschiedene Inspektionen zu bewerten. Es verwendet Flecken- und Bildgebungsanalysen sowie automatisierte Inspektionen, um die Fehlererkennung in jeder Phase des Produktionsprozesses sicherzustellen. Dadurch kann die Gesamtausbeute verbessert und genauere Ergebnisse erzielt werden. 201 Masken- und Waferinspektionswerkzeug ist ein unschätzbares Werkzeug für Halbleiterunternehmen und Waferhersteller, das robuste Lösungen und eine erhöhte Ertragsleistung bietet. Seine ausgeklügelten Funktionen zur Bildanalyse und Bildanalyse bieten Vertrauen in die visuelle Bewertung und Fehlererkennung jedes Geräts.