Gebraucht KLA / TENCOR 2111 #293642296 zu verkaufen

KLA/TENCOR 2111 ist eine anspruchsvolle Masken- und Wafer-Inspektionsanlage, die für die schnelle Abschirmung von Photomasken und Wafern entwickelt wurde. Es nutzt einen Vollfeldbereich-Scan, um kritische Fehler in Photomasken-Designs und lithographischen Prozessschichten zu erkennen, so dass es ideal für die Herstellung von Masken und Wafern und die Prozesskontrolle ist. Die KLA 2111 ist mit einem hochauflösenden digitalen Bildgebungssystem ausgestattet, das Bilddaten über das gesamte Sichtfeld aufnimmt. Diese Daten werden dann von einem fortgeschrittenen Lichtarray aus algorithmischer Korrektur und Mustererkennung zur Fehlererkennung verarbeitet. Neben der Bildanalyse verfügt das Gerät auch über ein Gelenkmikroskop zur Mikroprobierung kritischer Defekte. Die Maschine ist in der Lage, Schichten jeder Dicke und Typ bis zu 4,20 "(10,6 cm) in der Größe zu überprüfen. Es ist in der Lage, Muster von 8 bis 809 µm zu untersuchen und zu messen, wobei feine Merkmale von 5 µm nachweisbar sind. Zusätzlich hat es eine feine Linienauflösung von 0,5 Mikrometern für erweiterte Masken- und Wafer-Fehlererkennung. TENCOR 2111 ist auch mit intuitiver Software ausgestattet, die eine einfache Navigation und umfassende Ergebnisanalyse ermöglicht. Diese intuitive Software sorgt für Genauigkeit und Zuverlässigkeit in Masken- und Wafer-Qualitätskontrollprozessen. Die Software ermöglicht auch die Speicherung und gemeinsame Nutzung von Daten über mehrere Bereiche der Fabrik, was dazu beitragen kann, die Zeit für die Fehleranalyse und -berichterstattung zu minimieren. Das Instrument ist vielseitig genug, um mehrere verschiedene Inspektionstypen, einschließlich Lichtquelle und Dunkelfeld, in mehreren Winkeln durchzuführen, um Fehler zu erkennen, die zu ernsthaften Produktionsverzögerungen führen könnten. Es bietet auch hohe Genauigkeit und Wiederholbarkeit in Bezug auf geprüfte Oberflächendaten und Qualitätsstandards Zertifizierung. Darüber hinaus ist es in der Lage, geschlossene Muster, offene Muster und Mehrschichtmuster zu erkennen. 2111 ist ein ideales Werkzeug für die Masken- und Wafer-Herstellung und Prozesskontrolle und bietet qualitativ hochwertige Ergebnisse und einfach zu bedienende Software. Die Anlage verfügt über ein breites Anwendungsspektrum und eignet sich somit für eine Vielzahl von High-End-Lithographieverfahren.