Gebraucht KLA / TENCOR 2111 #9410124 zu verkaufen

ID: 9410124
Defect review system.
KLA/TENCOR 2111 ist eine Hochgeschwindigkeits-, automatisierte Masken- und Wafer-Inspektionsanlage, die entwickelt wurde, um Kosten zu senken, indem Submikron-Defekte in großflächigen integrierten (LSI) Masken und Wafern schnell erkannt werden. Dieses hochentwickelte System verfügt über einen einzigartigen Scanansatz, der zwei Kameras sowie Hochleistungsoptiken und Algorithmen verwendet. Die erste CCD-Kamera scannt die Maske oder den Wafer bei niedriger Auflösung, während die zweite Kamera eine viel höhere Auflösung und einen detaillierteren Scan erhält. Dadurch kann das Gerät kleinere Fehler erkennen und andere Datenpunkte genauer verfolgen als herkömmliche Scansysteme. Die Maschine bietet auch eine Reihe von automatisierten Fehlererkennungen und Inspektionen, darunter Kantendefekte (Straßenpaletten oder -komponenten), Partikelfehler (Staub, Schmutzpartikel und andere Fremdkörper), Linienfehler (Haarrisse und andere elektrische Diskontinuitäten) und Fotokodierungsfehler (Fehler im Wafer-Herstellungsprozess). Das Werkzeug kann diese Fehler in Sekundenschnelle identifizieren und sogar zwischen sichtbaren und nicht sichtbaren Fehlern unterscheiden. Die KLA 2111 ist kompakt, leicht und hochmobil und somit ideal für Inspektionen in Labors und auf Produktionslinien. Es bietet auch eine Vielzahl von benutzerfreundlichen Funktionen, wie eine intuitive Touchscreen-Oberfläche, einstellbare Einstellungen für die Wiederholbarkeit und detaillierte Fehleranalysedaten. Eine Reihe von Hightech-Tools umfasst hochpräzise Zoommikroskope, mikroskopische Waferscanner und ein integriertes Fehlerdiagnosewerkzeug. TENCOR 2111 wurde entwickelt, um Kosten zu senken und die Genauigkeit der Wafer- und Maskeninspektion zu verbessern und konsistente und zuverlässige Ergebnisse zu liefern. Die automatisierte Fehlererkennung und Inspektion trägt dazu bei, den Durchsatz zu erhöhen und die Zykluszeit für Inspektionsprozesse zu reduzieren, was schnellere Durchlaufzeiten für die Herstellung von Masken und Wafern ermöglicht. Darüber hinaus sorgen die Hochleistungs-Scantechnologie und die detaillierten Berichtsfunktionen für Genauigkeit und detaillierte Fehleranalysen. Alle diese Funktionen kombinieren, um 2111 zu einem der effektivsten und effizientesten Inspektionssysteme zur Verfügung zu stellen.
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