Gebraucht KLA / TENCOR 2131 #168852 zu verkaufen

KLA / TENCOR 2131
ID: 168852
Defect Wafer Inspection System Slight scuff marks on machine.
KLA/TENCOR 2131 Masken- und Wafer-Inspektionsausrüstung ist ein umfassendes Inspektionssystem für Wafermaskeninspektion, Messtechnik und Fehlerüberprüfung. Entwickelt für einfache Bedienung und hohe Leistung, bietet das Gerät automatisierte Bilderfassung, Bildprüfung und Fehlerüberprüfung, um hohe Erträge und Prozesskontrolle zu gewährleisten. KLA 2131 verfügt über eine hochauflösende CCD-Kamera und ein Beleuchtungsmodul, das entwickelt wurde, um Fehlerbilder selbst bei anspruchsvollen Maskierungstechnologien mit hoher Genauigkeit zu erfassen. Auf diese Weise können Anwender die gesamte Bandbreite von Defekten, einschließlich Pinholes und Oberflächenverunreinigungen, bis zu 0,02 Mikron erkennen und charakterisieren. Darüber hinaus verfügt die Maschine über ein automatisiertes Steuerwerkzeug, das eine schnelle Geräteausrichtung, Musteranpassung und Fehlererkennung ermöglicht. Auf diese Weise können Benutzer fehlerhafte Masken problemlos beheben und analysieren, was eine Prozesskontrolle und einen hohen Ertrag gewährleistet. TENCOR 2131 enthält auch ein fortschrittliches Messtechnik-Tool für hochpräzise Messungen von Wafern. Dieses Messtechnik-Tool enthält eine genaue, schnelle optische Ausrichtung, die eine hohe Genauigkeit und Reproduzierbarkeit gewährleistet. Das Modell enthält auch eine Vielzahl von erweiterten Mess- und Charakterisierungsalgorithmen, um die Parameter von Fehlerbildern, einschließlich Dicke, Oberflächentemperatur und andere Eigenschaften, genau zu messen. 2131 verfügt auch über eine intuitive Benutzeroberfläche, mit der Benutzer schnell zwischen verschiedenen Funktionen navigieren und Bilder überprüfen können. Darüber hinaus können die Masken- und Wafer-Inspektionsgeräte problemlos in bestehende Systeme integriert werden, was einen schnellen Datenaustausch und eine effiziente Maschine-zu-Maschine-Kommunikation ermöglicht. Zusammenfassend bietet KLA/TENCOR 2131 Masken- und Wafer-Inspektionssystem eine umfassende Palette von Werkzeugen für schnelle und genaue Maskeninspektion, Messtechnik und Fehlerüberprüfung. Mit seiner automatisierten Steuereinheit und der hochauflösenden CCD-Kamera ermöglicht die Maschine es Benutzern, Fehler bis zu 0,02 Mikron genau zu erkennen und zu charakterisieren, was eine hohe Ausbeute und Prozesskontrolle gewährleistet. Darüber hinaus macht die intuitive Benutzeroberfläche und die einfache Integration in bestehende Systeme das Tool hocheffizient und produktiv.
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