Gebraucht KLA / TENCOR 2131 #293587730 zu verkaufen

KLA/TENCOR 2131 ist eine Masken- und Wafer-Inspektionsanlage, die zur genauen Erkennung großer Fehler an Retikeln und Wafern entwickelt wurde. Es verwendet ein modernes, hochauflösendes Bildgebungssystem, das mit einer Bibliothek physikbasierter Modelle kombiniert wird, um eine breite Palette von Fehlertypen genau zu identifizieren. Das Gerät kann verschiedene Inspektionsabläufe wie Fehlerüberprüfung, Maske-zu-Wafer-Vergleich und Isolationen abwickeln, sodass OEMs Retikel und Wafer schnell und zuverlässig überprüfen können. Die Maschine ist mit einem hochauflösenden Bildgebungswerkzeug ausgestattet, das einen hervorragenden Bildkontrast und die Möglichkeit bietet, Fehler über einen weiten Dynamikbereich zu erfassen. Es kann Fehler bis auf wenige Nanometer genau erkennen und hat die Flexibilität, eine breite Palette von Eingangsmaterialien wie Pellikel, Glasscheiben, Quarzscheiben und IC-Wafer zu verarbeiten. Die Bibliotheksmodelle im Asset sollen eine Vielzahl möglicher Fehlertypen schnell und präzise identifizieren, von fehlenden elektrischen Komponenten bis hin zu zahlreichen anderen physikalischen Unvollkommenheiten. Die Modellbibliothek besteht aus physikbasierten Modellen und grundlegenden Strukturmodellen für Kantenfehler, Linienfehler, Verbundfehler, fehlende Elemente und andere. Die Bibliothek ermöglicht es Benutzern, eigene kundenspezifische Modelle zu bauen und Fehler auch unter schwierigen Beleuchtungsbedingungen, wie z.B. polarisiertem Licht mit geringer Intensität, zu erkennen. Das Modell wird auch mit leistungsfähiger Datenanalysesoftware geliefert, mit der Benutzer Bilder analysieren und eine Vielzahl von Operationen durchführen können, wie Datenkorrektur, Verbesserung und Farbausgleich, um die Fehlererkennung über eine breite Palette von Materialien hinweg zu verbessern. Die Software zur Datenanalyse und Fehlererkennung ermöglicht es OEMs, Einblicke in die Ursachen zu gewinnen, Fehler zu bewerten und zu analysieren und den Designern rechtzeitiges Feedback zu geben. KLA 2131 ist das ideale Werkzeug für ein breites Spektrum an Masken- und Waferinspektionsanwendungen und garantiert hohe Genauigkeit und Durchsatz. Seine intuitive Benutzeroberfläche, leistungsstarke Bibliotheksmodelle und Datenanalysesoftware ermöglichen eine zuverlässige und genaue Inspektion von Masken und Wafern. Es hilft auch, die Markteinführungszeit für kritische integrierte Schaltkreise zu reduzieren.